公开(公告)号：CN101144905A

公开(公告)日：2008-03-19

申请号：CN200710153317.9

申请日：2007-09-14

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 齐所贤一郎 ,  林善纪 ,  酒井浩司

IPC: G02B26/12 ,  G02B26/10 ,  G02B27/00 ,  B41J2/44

Abstract: 一种透明的光学衍射元件，包括由阶梯形成的衍射面。阶梯的宽度设置为等于用于两个或更多波长的λi/{n(λi)－1}的公倍数，λi(i＝1，2，...)是波长，且n(λi)是关于波长λi的折射率。

公开(公告)号：CN103163645B

公开(公告)日：2015-10-28

申请号：CN201210555717.3

申请日：2012-12-19

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 渡边直人 ,  鸨田才明 ,  酒井浩司 ,  久保信秋 ,  村中雅幸

IPC: G02B26/12 ,  G03G15/043

CPC classification number: B41J2/473 ,  B41J2/471 ,  G02B26/123 ,  G02B26/127 ,  G02B26/129 ,  G03G15/043 ,  G03G15/505

Abstract: 本发明涉及光学扫描装置和成像设备。一种光学扫描装置包括：光源、具有旋转多面镜以便偏转来自光源的光束的光偏转器、经配置将由光偏转器偏转的光束聚焦目标表面上的扫描光学系统、经配置确定在目标表面上的写入开始时机的同步检测传感器以及经配置基于旋转多面镜的一个旋转所需时间的测量值，修正同步检测传感器的检测数据的处理单元。

公开(公告)号：CN101377570B

公开(公告)日：2011-03-02

申请号：CN200810214254.8

申请日：2008-08-29

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 酒井浩司

IPC: G02B27/00 ,  G02B27/44 ,  G02B26/12 ,  G02B1/04 ,  G03G15/01 ,  H04N1/04

CPC classification number: G02B26/124 ,  G02B7/008 ,  G02B27/0037 ,  G02B27/4227 ,  G02B27/4283

Abstract: 本发明公开了一种光学扫描装置和成像装置，该光学扫描装置包括固定在单个连续构件上的半导体激光器和第一光学元件。作为衍射光学元件的第二光学元件具有其中形成有椭圆形沟槽的衍射表面，并且该衍射表面包括这样的衍射部分屈光力，使得由于在光学扫描装置中的温度变化而导致的沿着主扫描方向的光束腰部位置变化基本上变为零。其上固定着半导体激光器和第一光学元件的构件具有这样的线性膨胀系数，使得椭圆形沟槽的椭圆度增大。

公开(公告)号：CN101149479A

公开(公告)日：2008-03-26

申请号：CN200710154300.5

申请日：2007-09-17

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 酒井浩司 ,  林善纪 ,  上田健 ,  市井大辅 ,  齐所贤一郎

IPC: G02B26/10 ,  G03G15/00 ,  B41J2/47 ,  H04N1/04

Abstract: 本发明涉及两光束扫描用光源装置，光扫描装置，以及图像形成装置。两光束扫描用光源装置(10)包括：互相隔开所定距离配置的两个激光二极管元件(1，2)；合成树脂制的两个耦合透镜(3，4)，将分别来自激光二极管元件(1，2)光束(B1，B2)变换为平行光；合成棱镜部件(5a)，合成变换为平行光的光束(B1，B2)，成为合成光束(B3)。在耦合透镜(3，4)的入射面上，设有衍射面部(3a，4a)。设定该衍射面部(3a，4a)，使得激光二极管元件(1，2)及耦合透镜(3，4)的温度变化为起因的放大率变化所引起的光点的焦点位置变化大致为零。能提供减少温度变化引起的在被扫描面上的光点的焦点位置变化的两光束扫描用光源装置。

公开(公告)号：CN113474170A

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN202080015785.3

申请日：2020-03-09

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 藤田贵史 ,  须原浩之 ,  酒井浩司 ,  小桥川翔太 ,  竹内惇 ,  田村麻人 ,  前田一郎 ,  西尾卓卫

IPC: B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B29C64/141 ,  B29C64/241 ,  B29C64/268 ,  B29C64/295 ,  B29C64/321

Abstract: 一种被构造为对三维被建模对象进行建模的设备，包括载体、能量施加单元和飞行单元。载体被构造为承载建模材料。能量施加单元被构造为向被建模对象的表面施加能量。飞行单元被构造为将承载在载体上的建模材料朝向被建模对象的表面飞行，能量被施加到表面。

公开(公告)号：CN100514117C

公开(公告)日：2009-07-15

申请号：CN200710153317.9

申请日：2007-09-14

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 齐所贤一郎 ,  林善纪 ,  酒井浩司

IPC: G02B26/12 ,  G02B26/10 ,  G02B27/00 ,  B41J2/44

Abstract: 一种透明的光学衍射元件，包括由阶梯形成的衍射面。阶梯的宽度设置为等于用于两个或更多波长的λi/{n(λ1)-1}的公倍数，λi(i＝1，2，…)是波长，且n(λ1)是关于波长λ1的折射率。

公开(公告)号：CN101377570A

公开(公告)日：2009-03-04

申请号：CN200810214254.8

申请日：2008-08-29

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 酒井浩司

IPC: G02B27/00 ,  G02B27/44 ,  G02B26/12 ,  G02B1/04 ,  G03G15/01 ,  H04N1/04

CPC classification number: G02B26/124 ,  G02B7/008 ,  G02B27/0037 ,  G02B27/4227 ,  G02B27/4283

Abstract: 本发明公开了一种光学扫描装置和成像装置，该光学扫描装置包括固定在单个连续构件上的半导体激光器和第一光学元件。作为衍射光学元件的第二光学元件具有其中形成有椭圆形沟槽的衍射表面，并且该衍射表面包括这样的衍射部分屈光力，使得由于在光学扫描装置中的温度变化而导致的沿着主扫描方向的光束腰部位置变化基本上变为零。其上固定着半导体激光器和第一光学元件的构件具有这样的线性膨胀系数，使得椭圆形沟槽的椭圆度增大。

公开(公告)号：CN1825162A

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：CN200610004123.8

申请日：2006-02-21

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 齐所贤一郎 ,  酒井浩司

IPC: G02B26/10 ,  G03G15/00

Abstract: 本发明公开一种扫描光学系统，其利用单一透镜将由光学偏转器在主扫描方向上偏转的发散光通量会聚于扫描目标表面上。该透镜具有在主扫描方向和副扫描方向上呈双凸形状的两个表面，且至少一个表面是复曲面，其中在主扫描方向上的截面内连接副扫描方向上的截面内的曲率中心的线是非线性的，并且该复曲面在副扫描方向上的截面内的曲率变化关于该透镜的光轴是非对称的。所述表面是变形表面。

公开(公告)号：CN109075531A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201780025544.5

申请日：2017-04-19

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 酒井浩司 ,  樋口美穗

IPC: H01S5/0683 ,  G02B27/01 ,  H01S5/40 ,  H01S5/00 ,  H01S5/06 ,  H01S5/068 ,  H04N9/31

Abstract: 一种半导体激光器用于生成彩色光。该半导体激光器以纵向多模进行振荡。在输出光的光谱分布中具有相对于峰强度大于或等于-20dB的强度的波长带的宽度为小于或等于15nm。光源设备可以包括：该半导体激光器；波长估计设备，其用于估计来自该半导体激光器的光的波长λ；以及发射光强度设置单元，其用于根据波长估计设备的估计结果来设置半导体激光器的发射光强度。

公开(公告)号：CN103364946A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201310096399.3

申请日：2013-03-25

Applicant: 株式会社理光

Inventor： 久保信秋 ,  鸨田才明 ,  酒井浩司 ,  渡边直人 ,  中岛智宏 ,  石山赖史

IPC: G02B26/10 ,  G03G15/04

CPC classification number: G03G15/04036 ,  G03G15/0435 ,  G03G21/1666

Abstract: 本发明涉及曝光装置以及图像形成装置，其目的在于提供一种能够改善机械性外来不利影响抵抗强度的曝光装置。本发明的曝光装置具备光学框体(2300)，该光学框体(2300)的底板(2301)表面和底板(2301)背面上分别形成多条以等间隔排设的漕(2307a)，底板表面的漕(2307a)的中心位置与底板背面的漕(2307a)的中心位置之间互相偏离，偏离量为漕间间隔的1/2倍。对于薄型化光学框体，该结构不仅不会带来重量增加和原料费用上升，而且有利于提高光学框体的抗振性能，进而改善光扫描装置的机械性外来不利影响抵抗强度。