公开(公告)号：CN105939443B

公开(公告)日：2018-12-28

申请号：CN201610117839.2

申请日：2016-03-02

Applicant: 株式会社理光

Inventor： V.南波迪里 ,  K.P.阿加雷文卡特沙雷奥 ,  丸山刚

IPC: H04N5/225 ,  H04N5/232

CPC classification number: H04N5/349 ,  G06T7/557 ,  G06T2207/10052 ,  H04N5/2254

Abstract: 全光系统中的视差。光场成像系统捕获不同图像，其提供相互偏移子像素量的视图。这些视图可以组合以产生物体的更高分辨率的数字图像。

公开(公告)号：CN105939443A

公开(公告)日：2016-09-14

申请号：CN201610117839.2

申请日：2016-03-02

Applicant: 株式会社理光

Inventor： V.南波迪里 ,  K.P.阿加雷文卡特沙雷奥 ,  丸山刚

IPC: H04N5/225 ,  H04N5/232

CPC classification number: H04N5/349 ,  G06T7/557 ,  G06T2207/10052 ,  H04N5/2254 ,  H04N5/23232

Abstract: 全光系统中的视差。光场成像系统捕获不同图像，其提供相互偏移子像素量的视图。这些视图可以组合以产生物体的更高分辨率的数字图像。