公开(公告)号：CN102112922A

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：CN200980130519.9

申请日：2009-10-13

Applicant: 株式会社艾迪科

Inventor： 斋藤诚一 ,  森田博 ,  竹之内宏美 ,  小林纯 ,  尾见仁一

IPC: G03F7/075 ,  C08G77/16 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/023 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  H01L51/50 ,  H05B33/22

CPC classification number: G03F7/0757 ,  C08G77/16 ,  C08G77/18 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/40 ,  H05B33/10 ,  H05B33/22

Abstract: 本发明的正型感光性组合物含有：作为(A)成分的硅树脂，所述硅树脂的1分子中具有至少2个以下述通式(1)表示的基团、作为(B)成分的具有缩水甘油基的硅氧烷化合物、作为(C)成分的重氮萘醌类、以及作为(D)成分的有机溶剂。永久抗蚀剂按下述方法制造：将上述正型感光性组合物涂布到基材上，对涂布物进行曝光、碱显影后，在120～350℃的温度下进行后烘烤，从而制造永久抗蚀剂。通式(1)中，R1表示可具有取代烃基的碳原子数为1～10的亚烷基，R2表示碳原子数为1～4的烷基，a表示0或1～4的数，b表示1～3的数，a+b不超过5，

公开(公告)号：CN102112922B

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：CN200980130519.9

申请日：2009-10-13

Applicant: 株式会社艾迪科

Inventor： 斋藤诚一 ,  森田博 ,  竹之内宏美 ,  小林纯 ,  尾见仁一

IPC: G03F7/075 ,  C08G77/16 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/023 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  H01L51/50 ,  H05B33/22

CPC classification number: G03F7/0757 ,  C08G77/16 ,  C08G77/18 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/40 ,  H05B33/10 ,  H05B33/22

Abstract: 本发明的正型感光性组合物含有：作为(A)成分的硅树脂，所述硅树脂的1分子中具有至少2个以下述通式(1)表示的基团、作为(B)成分的具有缩水甘油基的硅氧烷化合物、作为(C)成分的重氮萘醌类、以及作为(D)成分的有机溶剂。永久抗蚀剂按下述方法制造：将上述正型感光性组合物涂布到基材上，对涂布物进行曝光、碱显影后，在120～350℃的温度下进行后烘烤，从而制造永久抗蚀剂。通式(1)中，R1表示可具有取代烃基的碳原子数为1～10的亚烷基，R2表示碳原子数为1～4的烷基，a表示0或1～4的数，b表示1～3的数，a+b不超过5，

公开(公告)号：CN102566279B

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201110378382.8

申请日：2011-11-24

Applicant: 株式会社艾迪科

Inventor： 森田博 ,  竹之内宏美 ,  小林纯 ,  尾见仁一

IPC: G03F7/075

Abstract: 本发明提供正型感光性树脂组合物，其含有作为基础树脂的具有羧基和/或酚性羟基的聚硅氧烷化合物、作为感光性成分的感光性重氮醌化合物、和有机溶剂，其特征在于，含有环氧硅氧烷化合物，所述环氧硅氧烷化合物为将下述通式(1)所示的基团彼此、或者下述通式(1)所示的基团与下述通式(2)所示的基团用从在1分子中具有2～4个乙烯基的化合物中去除了乙烯基而成的残基进行连结而得到的。(式中，R1表示可以相同也可以不同的碳原子数为1～4的烷基或碳原子数为6～10的芳基，E表示具有环氧基的基团，a表示2～5的数。)(式中，b表示使a-b+1成为0～4的数的2～6的数，R1、E和a与上述通式(1)意义相同)。

公开(公告)号：CN103502318A

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：CN201280020940.6

申请日：2012-04-09

Applicant: 株式会社艾迪科

Inventor： 森田博 ,  小林纯 ,  横田洋大 ,  降幡泰久

IPC: C08G77/62 ,  C01B21/082 ,  C01B33/12 ,  C08K5/00 ,  C08L83/16 ,  C09D183/16 ,  H01L21/316

CPC classification number: H01L21/02164 ,  C01B21/087 ,  C08G77/62 ,  C08L83/16 ,  C09D1/00 ,  H01L21/02282 ,  H01L31/02167 ,  Y02E10/50

Abstract: 本发明提供一种在水蒸汽等氧化剂中的烧成工序中的收缩小、并且不易发生二氧化硅膜的龟裂以及与半导体基板的剥离的无机聚硅氮烷以及含有无机聚硅氮烷的二氧化硅膜形成用涂布液。本发明提供一种无机聚硅氮烷，其中，在1H-NMR光谱中，将4.75ppm以上且低于5.4ppm的范围的峰面积设定为A，将4.5ppm以上且低于4.75ppm的范围的峰面积设定为B，将4.2ppm以上且低于4.5ppm的范围的峰面积设定为C时，A/（B+C）的值为0.9～1.5，（A+B）/C的值为4.2～50，而且，根据聚苯乙烯换算值得到的质均分子量为2000～20000；本发明还提供含有该无机聚硅氮烷的二氧化硅膜形成用涂布液。

公开(公告)号：CN102566279A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110378382.8

申请日：2011-11-24

Applicant: 株式会社艾迪科

Inventor： 森田博 ,  竹之内宏美 ,  小林纯 ,  尾见仁一

IPC: G03F7/075

Abstract: 本发明提供正型感光性树脂组合物，其含有作为基础树脂的具有羧基和/或酚性羟基的聚硅氧烷化合物、作为感光性成分的感光性重氮醌化合物、和有机溶剂，其特征在于，含有环氧硅氧烷化合物，所述环氧硅氧烷化合物为将下述通式(1)所示的基团彼此、或者下述通式(1)所示的基团与下述通式(2)所示的基团用从在1分子中具有2～4个乙烯基的化合物中去除了乙烯基而成的残基进行连结而得到的。(式中，R1表示可以相同也可以不同的碳原子数为1～4的烷基或碳原子数为6～10的芳基，E表示具有环氧基的基团，a表示2～5的数。)(式中，b表示使a-b+1成为0～4的数的2～6的数，R1、E和a与上述通式(1)意义相同)。