光致抗蚀剂组合物
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1853138B

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN200480026729.0

    申请日:2004-10-07

    CPC classification number: G03F7/0392

    Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物,其特征在于含有:作为(A)成分的下述通式:{RCOO(AO)a}mX{O(AO′)bH}n(1);(式中,RCO表示从碳原子数为6~22的脂肪酸中除去了羟基的残基,X表示从至少具有3个羟基的多元醇中除去了羟基的残基,AO及AO′表示碳原子数为2~4的氧化亚烷基,a表示0或大于等于1的数,b表示大于等于1的数,m及n表示大于等于1的数。其中,m及n的和与前述多元醇的羟基数相同)所示的聚醚酯;作为(B)成分的具有阴离子性基团的碱可溶性树脂或其改性物。

    光致抗蚀剂组合物
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1853138A

    公开(公告)日:2006-10-25

    申请号:CN200480026729.0

    申请日:2004-10-07

    CPC classification number: G03F7/0392

    Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物,其特征在于含有:作为(A)成分的下述通式(1){RCOO(AO)a}mX{O(AO′)bH}n(1)(式中,RCO表示从碳原子数为6~22的脂肪酸中除去了羟基的残基,X表示从至少具有3个羟基的多元醇中除去了羟基的残基,AO及AO′表示碳原子数为2~4的氧化亚烷基,a表示0或大于等于1的数,b表示大于等于1的数,m及n表示大于等于1的数。其中,m及n的和与前述多元醇的羟基数相同)所示的聚醚酯;作为(B)成分的具有阴离子性基团的碱可溶性树脂或其改性物。

    光敏抗蚀剂显影液用消泡分散剂

    公开(公告)号:CN1296770C

    公开(公告)日:2007-01-24

    申请号:CN200310120468.6

    申请日:2003-10-30

    Abstract: 本发明提供在使用显影液的光敏抗蚀剂的显影工序中,对显影液的发泡消泡性优良且在显影液中产生的浮渣的分散性也优良的抗蚀剂显影液用消泡分散剂。一种光敏抗蚀剂显影液用消泡分散剂,其特征在于,含有相对于碳数15以上的高级脂肪酸100质量份,碳数6~14的中级脂肪酸的比率是5~300质量份的混合脂肪酸和脂族三元醇反应的部分脂肪酸酯。

Patent Agency Ranking