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公开(公告)号：CN100561352C
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200610143732.1
申请日：2006-11-03
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , G03B17/48 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种激光束、紫外线照射周边曝光装置及其方法，从而将一个台座的移动速度确定为适当的速度。激光束、紫外线照射周边曝光装置包括：保持基板的台座(2)；使台座在绕与基板的面正交的垂线旋转的旋转方向、使台座沿基板的面水平移动的移动方向以及与使台座与所述移动方向正交的正交方向上水平移动的移动搬运机构(3)；在该移动搬运机构的移动路径上设在基板的上方的位置，并照射激光束的激光束单元(5)；从照射口对周边区域照射包含紫外线的光的紫外线照射单元(9)；和对应于照射激光束时使台座移动的第一移动速度和照射包含紫外线的光时使台座移动的第二移动速度中的某一个速度来控制移动搬运机构的控制装置(20)。
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公开(公告)号：CN1959538A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200610143737.4
申请日：2006-11-03
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种周边曝光装置及其方法，该周边曝光装置及其方法可提高生产量并使污染基板表面的原因达到最小限度。周边曝光装置对基板(W)的周边区域照射包含紫外线的光，来对光阻剂墨液进行曝光，该装置包括：紫外线照射单元(9)，其设于处于基板上方的位置，从形成在框体的照射口(9m)经由照射用透镜(9e)将包含紫外线的光照射至基板的周边区域；照度测量部(11)，其设于紫外线照射单元，测量紫外线的照度；以及照度测量部移动机构，其使照度测量部移动至紫外线照射单元的照射口的面对位置以及从照射口离开的退避位置。
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公开(公告)号：CN111686667B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN202010179086.4
申请日：2020-03-12
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 提供紫外线照射装置及臭氧产生器。课题在于在各种各样的使用环境下，也能够实现稳定且高效的紫外线照射处理。在紫外线照射装置(10)中，将轴流风扇(20)与管状流路(30)同轴地配置，来供给流体。并且，在配置有准分子灯(40)的区域(FA)中，在产生以流速(方向和速度)根据场所而大不相同的复杂的流(非均匀湍流)为主导的流场的区域配置准分子灯(40)。
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公开(公告)号：CN111686667A
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN202010179086.4
申请日：2020-03-12
Applicant: 株式会社ORC制作所
Abstract: 提供紫外线照射装置及臭氧产生器。课题在于在各种各样的使用环境下，也能够实现稳定且高效的紫外线照射处理。在紫外线照射装置(10)中，将轴流风扇(20)与管状流路(30)同轴地配置，来供给流体。并且，在配置有准分子灯(40)的区域(FA)中，在产生以流速(方向和速度)根据场所而大不相同的复杂的流(非均匀湍流)为主导的流场的区域配置准分子灯(40)。
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公开(公告)号：CN100561353C
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200610143734.0
申请日：2006-11-03
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , G03B17/48
Abstract: 本发明提供一种激光束曝光装置及其方法，该装置及方法不会使得识别标记变形，而且在多个激光照射单元中光路长度相同。激光束曝光装置(5)包括：光路长度调节单元(6)，其对从激光束光源(5a)至基板的激光束的光路长度进行调节；和多个激光照射单元(7)，其在基板的移动路径上设于基板的上方，并向基板照射由光路长度调节单元调节了光路长度的激光束。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100501575C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200610143731.7
申请日：2006-11-03
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种周边曝光装置及其方法，该周边曝光装置及其方法可对应于在周边区域的任何位置上形成识别标记，并可使污染基板表面的原因达到最小限度。周边曝光装置具有：紫外线照射单元和照射区域调节遮板机构，照射区域调节遮板机构具有：第一识别标记遮蔽板，其包括对第一识别标记进行遮光的遮蔽部；第一识别标记遮蔽板用的移动装置，其沿着与基板的移动方向相同的方向，且与基板的移动速度同步的速度，使第一识别标记遮蔽板以横穿照射口的方式移动；图案区域遮蔽板，其对与基板的图案区域对应的位置进行遮光；以及图案区域遮蔽板用的移动装置，其使该图案区域遮蔽板对应于基板的周边区域的宽度而在对照射口进行遮光的方向上移动。
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公开(公告)号：CN101122752A
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200710092202.3
申请日：2007-03-30
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F9/00 , G03F7/20 , G02F1/1333 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题在于提供一种避免藉由对正而产生的基板的变形与破损的对正装置以及使用该对正装置的曝光装置。本发明的解决手段为：本发明的对正装置包括：一台座(2、3)，其保持二维平面的方形基板(W)，以正交于二维平面的轴为中心旋转，且于该二维平面内的第一方向上移动；一第一摄影装置(4a、4b)，其对配置于方形基板的一边的边缘的彼此分离的位置上的二个部位进行摄影，并输出二个部位的边缘影像；一第二摄影装置(4c)，其对与一边相交的另一边的边缘的一个部位进行摄影，并输出一个部位的另一边缘影像；一影像处理电路(100)，其对边缘影像及另一边缘影像进行影像处理；以及一控制部(20)，其根据影像处理装置的输出而控制台座。
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公开(公告)号：CN1959534A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200610143731.7
申请日：2006-11-03
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种周边曝光装置及其方法，该周边曝光装置及其方法可对应于在周边区域的任何位置上形成识别标记，并可使污染基板表面的原因达到最小限度。周边曝光装置具有：紫外线照射单元(9)，其在移动路径上，从照射口经由照射用透镜将包含紫外线的光照射至基板的周边区域；和照射区域调节遮板机构(10)，其根据基板的移动速度，以遮盖照射口(9m)的至少一部分而对识别标记进行遮光的方式进行控制。
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公开(公告)号：CN101122752B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200710092202.3
申请日：2007-03-30
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F9/00 , G03F7/20 , G02F1/1333 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种避免藉由对正而产生的基板的变形与破损的对正装置以及使用该对正装置的曝光装置。本发明的解决手段为：本发明的对正装置包括：一台座(2、3)，其保持二维平面的方形基板(W)，以正交于二维平面的轴为中心旋转，且于该二维平面内的第一方向上移动；一第一摄影装置(4a、4b)，其对配置于方形基板的一边的边缘的彼此分离的位置上的二个部位进行摄影，并输出二个部位的边缘影像；一第二摄影装置(4c)，其对与一边相交的另一边的边缘的一个部位进行摄影，并输出一个部位的另一边缘影像；一影像处理电路(100)，其对边缘影像及另一边缘影像进行影像处理；以及一控制部(20)，其根据影像处理装置的输出而控制台座。
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公开(公告)号：CN100570492C
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200610143737.4
申请日：2006-11-03
Applicant: 株式会社ORC制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种周边曝光装置及其方法，该周边曝光装置及其方法可提高生产量并使污染基板表面的原因达到最小限度。周边曝光装置对基板(W)的周边区域照射包含紫外线的光，来对光阻剂墨液进行曝光，该装置包括：紫外线照射单元(9)，其设于处于基板上方的位置，从形成在框体的照射口(9m)经由照射用透镜(9e)将包含紫外线的光照射至基板的周边区域；照度测量部(11)，其设于紫外线照射单元，测量紫外线的照度；以及照度测量部移动机构，其使照度测量部移动至紫外线照射单元的照射口的面对位置以及从照射口离开的退避位置。
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