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公开(公告)号：CN106514477B
公开(公告)日：2018-06-22
申请号：CN201611216501.9
申请日：2016-12-26
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本发明公开了一种双面抛光设备，属于表面抛光设备领域。包括底座、安装在底座上端面上的移动平台、安装在移动平台上的抛光组件和安装在底座上端面上并对应抛光组件的工件放置台组件；工件放置台组件包括第一放置台、第一滑梯、第二放置台、第二滑梯和收纳筒；位于第一滑梯入口处并相对第一放置台一侧设置翻转部；对应第一放置台和第二放置台还设有推杆机构，位于第一放置台内设有送料机构。本发明体积小巧，能实现陶瓷片双面抛光，能有效改善实验人员工作环境和提高实验效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106475888B
公开(公告)日：2018-05-08
申请号：CN201611216868.0
申请日：2016-12-26
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本发明公开了一种双面陶瓷片抛光机，属于抛光设备领域。包括底座、安装在底座上端面上的移动平台、安装在移动平台上的抛光组件、安装在底座上端面上并对应抛光组件的工件放置台组件和控制器；工件放置台组件包括第一放置台、第一滑梯和第二放置台；位于第一滑梯入口处并相对第一放置台一侧设置翻转部；对应第一放置台还设有推杆机构；对应第一放置台和第二放置台的上端面工件放置处下方设置有压力传感器，所述控制器连接压力传感器；所述控制器连接控制第一移动机构、第二移动机构和驱动电机。本发明体积小巧，能实现陶瓷片双面抛光，能有效改善实验人员工作环境和提高实验效率。
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公开(公告)号：CN106514477A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201611216501.9
申请日：2016-12-26
Applicant: 桂林理工大学
CPC classification number: B24B29/02 , B24B27/0023 , B24B41/005 , B24B41/02 , B24B47/00 , B24B51/00
Abstract: 本发明公开了一种双面抛光设备，属于表面抛光设备领域。包括底座、安装在底座上端面上的移动平台、安装在移动平台上的抛光组件和安装在底座上端面上并对应抛光组件的工件放置台组件；工件放置台组件包括第一放置台、第一滑梯、第二放置台、第二滑梯和收纳筒；位于第一滑梯入口处并相对第一放置台一侧设置翻转部；对应第一放置台和第二放置台还设有推杆机构，位于第一放置台内设有送料机构。本发明体积小巧，能实现陶瓷片双面抛光，能有效改善实验人员工作环境和提高实验效率。
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公开(公告)号：CN106475888A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201611216868.0
申请日：2016-12-26
Applicant: 桂林理工大学
CPC classification number: B24B29/02 , B24B27/0023 , B24B41/005 , B24B41/02 , B24B47/00 , B24B51/00
Abstract: 本发明公开了一种双面陶瓷片抛光机，属于抛光设备领域。包括底座、安装在底座上端面上的移动平台、安装在移动平台上的抛光组件、安装在底座上端面上并对应抛光组件的工件放置台组件和控制器；工件放置台组件包括第一放置台、第一滑梯和第二放置台；位于第一滑梯入口处并相对第一放置台一侧设置翻转部；对应第一放置台还设有推杆机构；对应第一放置台和第二放置台的上端面工件放置处下方设置有压力传感器，所述控制器连接压力传感器；所述控制器连接控制第一移动机构、第二移动机构和驱动电机。本发明体积小巧，能实现陶瓷片双面抛光，能有效改善实验人员工作环境和提高实验效率。
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公开(公告)号：CN206677736U
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201621439259.7
申请日：2016-12-26
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本实用新型公开了一种双面抛光设备，属于表面抛光设备领域。包括底座、安装在底座上端面上的移动平台、安装在移动平台上的抛光组件和安装在底座上端面上并对应抛光组件的工件放置台组件；工件放置台组件包括第一放置台、第一滑梯、第二放置台、第二滑梯和收纳筒；位于第一滑梯入口处并相对第一放置台一侧设置翻转部；对应第一放置台和第二放置台还设有推杆机构，位于第一放置台内设有送料机构。本实用新型体积小巧，能实现陶瓷片双面抛光，能有效改善实验人员工作环境和提高实验效率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN206393427U
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201621439258.2
申请日：2016-12-26
Applicant: 桂林理工大学
Abstract: 本实用新型公开了一种双面陶瓷片抛光机，属于抛光设备领域。包括底座、安装在底座上端面上的移动平台、安装在移动平台上的抛光组件、安装在底座上端面上并对应抛光组件的工件放置台组件和控制器；工件放置台组件包括第一放置台、第一滑梯和第二放置台；位于第一滑梯入口处并相对第一放置台一侧设置翻转部；对应第一放置台还设有推杆机构；对应第一放置台和第二放置台的上端面工件放置处下方设置有压力传感器，所述控制器连接压力传感器；所述控制器连接控制第一移动机构、第二移动机构和驱动电机。本实用新型体积小巧，能实现陶瓷片双面抛光，能有效改善实验人员工作环境和提高实验效率。
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