公开(公告)号：CN1448692A

公开(公告)日：2003-10-15

申请号：CN03106006.4

申请日：2003-02-17

Applicant: 欧姆龙株式会社

Inventor： 宇野徹也 ,  滝政宏章 ,  菅孝博

IPC: G01B21/06

CPC classification number: G01B11/026

Abstract: 能进行高精度位移测量、并能缩短测量时间的位移传感器，具备：投光单元(1)、具有遮光掩模(901a)和受光元件(902a)的受光单元(9)、将投光单元(1)射出的光束聚焦于被测物体(8)的第1聚光元件(3、5、7)、将反射光束聚焦于受光单元的第2聚光元件(7、5、3)、在被测物体一侧使投光光轴和受光光轴同轴的第1光路控制元件(2)、及使从投光单元到被测物体的光程及从被测物体到受光单元的光程连续变化的光程扫描机构(6)。遮光掩模配置于从第2聚光元件到受光元件的光路中，受光元件接收通过遮光掩模的光束，根据因光程扫描机构而变化的受光元件的输出信号，取得被测物体的距离信息。

公开(公告)号：CN1249403C

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN03106006.4

申请日：2003-02-17

Applicant: 欧姆龙株式会社

Inventor： 宇野徹也 ,  滝政宏章 ,  菅孝博

IPC: G01B21/06 ,  G01B11/04

CPC classification number: G01B11/026

Abstract: 能进行高精度位移测量、并能缩短测量时间的位移传感器，具备：投光单元(1)、具有遮光掩模(901a)和受光元件(902a)的受光单元(9)、将投光单元(1)射出的光束聚焦于被测物体(8)的第1聚光元件(3、5、7)、将反射光束聚焦于受光单元的第2聚光元件(7、5、3)、在被测物体一侧使投光光轴和受光光轴同轴的第1光路控制元件(2)、及使从投光单元到被测物体的光程及从被测物体到受光单元的光程连续变化的光程扫描机构(6)。遮光掩模配置于从第2聚光元件到受光元件的光路中，受光元件接收通过遮光掩模的光束，根据因光程扫描机构而变化的受光元件的输出信号，取得被测物体的距离信息。

公开(公告)号：CN2622674Y

公开(公告)日：2004-06-30

申请号：CN03203340.0

申请日：2003-02-17

Applicant: 欧姆龙株式会社

Inventor： 宇野徹也 ,  滝政宏章 ,  菅孝博

IPC: G01B21/06

CPC classification number: G01B11/026

Abstract: 可几乎不受反射强度不匀影响而进行高精度快速位移测量的位移传感器，具备：投光单元(1)、具有遮光掩模(901a)和受光元件(902a)的受光单元(9)、将投光单元(1)射出的光束聚焦于被测物体(8)的第1聚光元件(3、5、7)、将反射光束聚焦于受光单元的第2聚光元件(3、5、7)、在被测物体一侧使投光光轴和受光光轴同轴的第1光路控制元件(2)及使从投光单元到被测物体的光程及从被测物体到受光单元的光程连续变化的光程扫描机构(6)。遮光掩模配置于从第2聚光元件到受光元件的光路中，在反射光束被第2聚光元件聚焦的位置因光程扫描机构而变化时，使遮住反射光束部分的比例改变。受光元件接收通过遮光掩模的光束，根据因光程扫描机构而变化的受光元件的输出信号，取得到被测物体距离的信息。