声音传感器及其制造方法

    公开(公告)号:CN102238461A

    公开(公告)日:2011-11-09

    申请号:CN201110094292.6

    申请日:2011-04-15

    CPC classification number: H04R19/005 H04R19/04

    Abstract: 本发明提供一种声音传感器,不使梁部的强度及隔膜的支承强度降低,而能够加长梁部的未由锚件固定的部分的长度。在硅基板(32)的上面,在由多晶硅构成的第一牺牲层(48)的延伸部(48a)上经由由氧化硅膜构成的第二牺牲层(47)形成有由多晶硅构成的隔膜(33)的梁部(36a)。延伸部(48a)形成在梁部(36a)的除前端部之外的区域下。从设于硅基板(32)的背室(35)蚀刻除去延伸部(48a),在梁部(36a)的下面的除前端部之外的区域形成空洞部(50)后,进一步蚀刻除去第二牺牲层(47)。此时,在梁部(36a)的前端部下面残留第二牺牲层(47)作为锚件(37)。

    声音传感器及其制造方法

    公开(公告)号:CN102238461B

    公开(公告)日:2014-03-19

    申请号:CN201110094292.6

    申请日:2011-04-15

    CPC classification number: H04R19/005 H04R19/04

    Abstract: 本发明提供一种声音传感器,不使梁部的强度及隔膜的支承强度降低,而能够加长梁部的未由锚件固定的部分的长度。在硅基板(32)的上面,在由多晶硅构成的第一牺牲层(48)的延伸部(48a)上经由由氧化硅膜构成的第二牺牲层(47)形成有由多晶硅构成的隔膜(33)的梁部(36a)。延伸部(48a)形成在梁部(36a)的除前端部之外的区域下。从设于硅基板(32)的背室(35)蚀刻除去延伸部(48a),在梁部(36a)的下面的除前端部之外的区域形成空洞部(50)后,进一步蚀刻除去第二牺牲层(47)。此时,在梁部(36a)的前端部下面残留第二牺牲层(47)作为锚件(37)。

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