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公开(公告)号:CN103459958A
公开(公告)日:2013-12-18
申请号:CN201180065919.3
申请日:2011-11-25
Applicant: 欧文·E·波特
Inventor: 欧文·E·波特
CPC classification number: B65G53/66 , B01J8/0015 , B01J8/005 , B01J8/08 , B01J2208/00088 , B01J2208/00548 , B01J2208/0084 , B65G53/16 , F26B3/0923 , F26B17/10 , F26B17/101 , F26B17/104 , F26B21/003 , F28C3/12 , F28D19/02
Abstract: 气体-颗粒处理器包括:具有气体入口、气体出口以及一个或多个颗粒入口的腔室;气体流动装置,气体流动装置可操作用于使气体以第一受控质量流率从气体入口经过腔室流至气体出口;颗粒流动装置,颗粒流动装置可操作用于将一个或多个颗粒流以第二受控质量流率引入到腔室中,每个颗粒流流动经过腔室内相应的处理区域,其中,处理器可操作用于控制所述第一和/或第二受控的质量流率,从而将每个处理区域的大部分的气体-颗粒混合物的孔隙率提供为0.900-0.995。
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公开(公告)号:CN103459958B
公开(公告)日:2015-09-09
申请号:CN201180065919.3
申请日:2011-11-25
Applicant: 欧文·E·波特
Inventor: 欧文·E·波特
CPC classification number: B65G53/66 , B01J8/0015 , B01J8/005 , B01J8/08 , B01J2208/00088 , B01J2208/00548 , B01J2208/0084 , B65G53/16 , F26B3/0923 , F26B17/10 , F26B17/101 , F26B17/104 , F26B21/003 , F28C3/12 , F28D19/02
Abstract: 气体-颗粒处理器包括:具有气体入口、气体出口以及一个或多个颗粒入口的腔室;气体流动装置,气体流动装置可操作用于使气体以第一受控质量流率从气体入口经过腔室流至气体出口;颗粒流动装置,颗粒流动装置可操作用于将一个或多个颗粒流以第二受控质量流率引入到腔室中,每个颗粒流流动经过腔室内相应的处理区域,其中,处理器可操作用于控制所述第一和/或第二受控的质量流率,从而将每个处理区域的大部分的气体-颗粒混合物的孔隙率提供为0.900-0.995。
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