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公开(公告)号：CN101928954A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010216252.X
申请日：2010-06-23
Applicant: 氯工程公司
CPC classification number: C25B1/13 , C02F1/46109 , C02F1/4672 , C02F1/78 , C02F2001/46147 , C02F2201/46115 , C02F2201/4617 , C02F2201/46195 , C25B9/08 , C25B11/0421 , C25B11/0447
Abstract: 导电金刚石电极及使用该导电金刚石电极的臭氧生成器。该导电金刚石电极包括：基板，具有在所述导电金刚石电极的整个表面上设置的多个凹凸部分；以及涂覆在基板的表面上的金刚石膜，其中所述凹凸部分中的每个凸部的宽度在0.2mm到1mm的范围内。本发明能够提供使用导电金刚石薄膜和厚基板的导电金刚石电极，其比自支撑型导电金刚石电极便宜，并且还具有足以用于零间隙电解的机械强度，其在平稳的水供应或气体释放的状态下长时间稳定地运行。本发明还涉及使用该导电金刚石电极的臭氧生成器。
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公开(公告)号：CN103380232A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201180068101.7
申请日：2011-11-21
Applicant: 氯工程公司
CPC classification number: C25B11/0447 , C25B1/285 , C25B1/30
Abstract: 本发明涉及导电性金刚石电极，其由导电性基体以及覆盖所述导电性基体表面的导电性金刚石层构成，其中，1)所述导电性金刚石层的厚度是1～25μm；2)电位窗满足式(1)：2.1V≤电位窗≤3.5V(1)；3)通过拉曼光谱分析得到的金刚石成分A与非金刚石成分B之比(A/B)满足式(2)：1.5＜A/B≤6.5(2)(A＝拉曼光谱分析中波数1300cm-1处的强度，B＝拉曼光谱分析中波数1500cm-1处的强度)。根据上述本发明，通过控制导电性金刚石层的膜厚以及导电性金刚石的结晶性，能够得到电极的耐久性高、且在低电池电压下的氧化性物质生成效率高的导电性金刚石电极、以及使用其的硫酸电解方法、硫酸电解装置。
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公开(公告)号：CN102648308A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201080055426.7
申请日：2010-11-26
Applicant: 氯工程公司
CPC classification number: C25B13/02 , C01B13/11 , C01B2201/24 , C01B2201/34 , C02F1/4618 , C02F2001/46138 , C02F2103/02 , C02F2201/46115 , C25B1/13 , C25B9/08 , C25B11/0478 , C25B13/08 , Y02E60/366
Abstract: 本发明提供臭氧发生器，所述臭氧发生器包含设置在氟树脂型阳离子交换膜各面上的阳极和阴极，阳极为表面上具有导电金刚石的导电金刚石电极，其中将水供应至阳极室，在阳极和阴极之间供应直流电流使水电解，以从阳极室逸出臭氧并从阴极室逸出氢气，使用包含基体和导电金刚石膜的导电金刚石电极，所述基体具有多个凸部-凹部，所述导电金刚石膜涂覆于所述基体表面之上，以及将离子交换树脂粒子紧密填充层或具有切口的氟树脂型阳离子交换膜与氟树脂型阳离子交换膜的阳极侧表面紧密贴合。
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公开(公告)号：CN103518007A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201280022515.0
申请日：2012-03-07
Applicant: 氯工程公司
Abstract: 本发明涉及通过电解硫酸来制造含有大量氧化性物质的硫酸的装置，该装置通过在电解装置内生成温度和浓度得到控制的稀释硫酸、并在温度得到控制的条件下对该稀释硫酸进行电解，从而高效且安全地生成含有大量氧化性物质的电解硫酸。本发明涉及硫酸电解装置以及硫酸电解方法，该硫酸电解装置具有阳极侧电解部和阴极侧电解部，其中，至少在阳极侧电解部内设置有稀释作为供给原料的浓硫酸并将稀释后的硫酸调整至所需的温度和浓度的阳极侧稀释硫酸生成回路(A)、和将该稀释硫酸生成回路(A)中生成的稀释硫酸电解而生成电解硫酸并将生成的电解硫酸调整至所需的温度和浓度的阳极侧电解硫酸生成回路(B)。
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公开(公告)号：CN103502797A
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201280011558.9
申请日：2012-02-27
Applicant: 氯工程公司
CPC classification number: G01N27/26 , G01N9/36 , G01N21/17 , G01N21/33 , G01N21/65 , G01N27/3277 , G01N29/02 , G01N31/228
Abstract: 本发明提供一种氧化性物质的总浓度测定方法、简易且廉价的氧化性物质的总浓度测定用浓度计以及使用其的硫酸电解装置，即使是含有过硫酸、过硫酸盐、过氧化氢等多种成分的评价液，所述氧化性物质的总浓度测定方法也能够用简便的操作以一次性测定得到总浓度。一种测定含有至少一种氧化性物质的评价液中的氧化性物质的总浓度的方法，其至少包括：在50～135℃下对评价液进行热处理的热处理工序；以及，检测经热处理的该评价液中的过氧化氢的过氧化氢检测工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101942668A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200910266697.6
申请日：2009-10-09
Applicant: 氯工程公司
CPC classification number: C25B1/13 , C01B13/115 , C01B2201/12 , C01B2201/22 , C01B2201/24 , C01B2201/32 , C01B2201/34 , C01B2201/62 , C25B9/10 , C25B15/02 , H01M4/8605 , Y02E60/366
Abstract: 本发明的目的在于提供一种臭氧发生装置的操纵方法和臭氧发生装置，根据所述臭氧发生装置及其操纵方法，可以在正常运转时有效地生成臭氧，并且在安全性最成问题的保护电流运行时阴极不产生氢气，防止在阳极产生的臭氧气体中混入氢气，从而改善臭氧气体的纯度，实现长时间的安全电解。为了达成上述目的，本发明提供下述臭氧发生装置的操纵方法及臭氧发生装置：在所述臭氧发生装置正常运转时，使所述阳极室内的所述阳极产生臭氧气体，并使所述阴极室内的所述阴极产生氢气；只有当所述臭氧发生装置停止运转并运行用来提供微小电流以保护所述阳极的保护电流时，将所述阴极室内的电解水及氢气完全排出之后，向所述阴极室内供应含氧气体，以使所述阴极作为气体电极进行氧还原反应，从而将所述阴极用作兼具气体发生电极和气体电极这两种功能的可逆电极。
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公开(公告)号：TWI402469B
公开(公告)日：2013-07-21
申请号：TW096122351
申请日：2007-06-21
Applicant: 氯工程公司 , CHLORINE ENGINEERS CORP., LTD.
Inventor： 真鍋明義 , MANABE AKIYOSHI , 加藤昌明 , KATO MASAAKI , 望月一政 , MOCHIZUKI KAZUMASA , 三村正和 , MIMURA MASAKAZU
CPC classification number: F23D14/22 , F23C2900/9901 , F23D91/02
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公开(公告)号：TW201307614A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101110134
申请日：2012-03-23
Applicant: 氯工程公司 , CHLORINE ENGINEERS CORP., LTD.
Inventor： 川口理惠 , KAWAGUCHI, RIE , 加藤昌明 , KATO, MASAAKI
Abstract: 本發明之課題為，在零間距方式的臭氧產生用電解槽中，減低陰極室所產生的氫穿透至陽極室的量。本發明之解決手段為，臭氧產生用電解槽(1)係在氟樹脂系陽離子交換膜(10)的兩側面設置陽極(20)及陰極(30)，藉此形成陽極室(21)與陰極室(31)，而在陽極-陰極間供應直流電流，以通電分解供應至陽極室(21)的純水，令陽極(20)產生臭氧，陰極(30)產生氫，其特徵為：啟動時處理之方式，係為進行陽極(20)之洗淨。
Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题为，在零间距方式的臭氧产生用电解槽中，减低阴极室所产生的氢穿透至阳极室的量。本发明之解决手段为，臭氧产生用电解槽(1)系在氟树脂系阳离子交换膜(10)的两侧面设置阳极(20)及阴极(30)，借此形成阳极室(21)与阴极室(31)，而在阳极-阴极间供应直流电流，以通电分解供应至阳极室(21)的纯水，令阳极(20)产生臭氧，阴极(30)产生氢，其特征为：启动时处理之方式，系为进行阳极(20)之洗净。
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公开(公告)号：TW201231730A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW100145902
申请日：2011-12-13
Applicant: 氯工程公司
IPC: C25B
CPC classification number: C25B11/0447 , C25B1/285 , C25B1/30
Abstract: 本發明係關於一種導電性鑽石電極，其特徵在於：包括導電性基體與被覆於上述導電性基體之表面上之導電性鑽石層，且1)上述導電性鑽石層之厚度為1～25 μm，2)電位範圍滿足式(1)，3)藉由拉曼光譜分析所獲得之鑽石成分A與非鑽石成分B之比(A/B)滿足式(2)。2.1 V≦電位範圍≦3.5 V …(1) 1.5＜A/B≦6.5 …(2) A=拉曼光譜分析中之波數1300 cm -1 下之強度 B=拉曼光譜分析中之波數1500 cm -1 下之強度 根據上述本發明，藉由控制導電性鑽石層之膜厚及導電性鑽石之結晶性，而獲得一種電極之耐久性較高且於低電解槽電壓下氧化性物質生成效率較高之導電性鑽石電極、使用其之硫酸電解方法及硫酸電解裝置。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种导电性钻石电极，其特征在于：包括导电性基体与被覆于上述导电性基体之表面上之导电性钻石层，且1)上述导电性钻石层之厚度为1～25 μm，2)电位范围满足式(1)，3)借由拉曼光谱分析所获得之钻石成分A与非钻石成分B之比(A/B)满足式(2)。2.1 V≦电位范围≦3.5 V …(1) 1.5＜A/B≦6.5 …(2) A=拉曼光谱分析中之波数1300 cm -1 下之强度 B=拉曼光谱分析中之波数1500 cm -1 下之强度 根据上述本发明，借由控制导电性钻石层之膜厚及导电性钻石之结晶性，而获得一种电极之耐久性较高且于低电解槽电压下氧化性物质生成效率较高之导电性钻石电极、使用其之硫酸电解方法及硫酸电解设备。
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公开(公告)号：TWI424089B
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：TW099144398
申请日：2010-12-16
Applicant: 東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA , 芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION , 氯工程公司 , CHLORINE ENGINEERS CORP., LTD.
Inventor： 田家真紀子 , TANGE, MAKIKO , 速水直哉 , HAYAMIZU, NAOYA , 佐藤伸良 , SATO, NOBUYOSHI , 米倉由里 , YONEKURA, YURI , 平林英明 , HIRABAYASHI, HIDEAKI , 黑川禎明 , KUROKAWA, YOSHIAKI , 小林信雄 , KOBAYASHI, NOBUO , 加藤昌明 , KATO, MASAAKI , 土門宏紀 , DOMON, HIROKI
IPC: C23F1/08 , C25B1/30 , H01L21/306
CPC classification number: C25B1/22 , C25B9/08 , G03F1/80 , G03F7/423 , H01L21/02057 , H01L21/31133 , H01L21/6708
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