薄膜沉积方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102348659A

    公开(公告)日:2012-02-08

    申请号:CN201080011627.7

    申请日:2010-03-10

    Abstract: 本发明的主题是通过火焰处理沉积在玻璃基材(1)上的至少一个薄膜进行的热处理方法,所述玻璃基材(1)在包含至少一个燃烧器(2)的至少一个火焰处理设备的路径中通行,所述处理能够提高所述至少一个薄膜的结晶度和/或提高所述至少一个薄膜中的微晶尺寸,所述方法的特征在于最大瞬时弯曲“b”低于150毫米并且遵从以下条件:b≤0.9×d其中弯曲“b”对应于以毫米表达的没有加热的基材平面(P1)与最接近经过燃烧器(2)尖端(6)的平面(P2)并且平行于没有加热的基材平面(P1)的基材点之间的距离,“d”对应于以毫米表达的没有加热的基材平面(P1)与燃烧器(2)尖端(6)之间的距离,与通行方向(5)垂直的方向上基材的宽度“L”大于或等于1.1m。

    薄膜沉积方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102348659B

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201080011627.7

    申请日:2010-03-10

    Abstract: 本发明的主题是通过火焰处理沉积在玻璃基材(1)上的至少一个薄膜进行的热处理方法,所述玻璃基材(1)在包含至少一个燃烧器(2)的至少一个火焰处理设备的路径中通行,所述处理能够提高所述至少一个薄膜的结晶度和/或提高所述至少一个薄膜中的微晶尺寸,所述方法的特征在于最大瞬时弯曲“b”低于150毫米并且遵从以下条件:b≤0.9×d其中弯曲“b”对应于以毫米表达的没有加热的基材平面(P1)与最接近经过燃烧器(2)尖端(6)的平面(P2)并且平行于没有加热的基材平面(P1)的基材点之间的距离,“d”对应于以毫米表达的没有加热的基材平面(P1)与燃烧器(2)尖端(6)之间的距离,与通行方向(5)垂直的方向上基材的宽度“L”大于或等于1.1m。

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