改进的热处理设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111032590A

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201880056490.3

    申请日:2018-08-29

    Abstract: 本发明涉及一种用于对涂敷到基板(S)上的涂层(R)进行热处理的热处理设备(1),其包括基板可以移动通过的加热装置(10),所述加热装置(10)被设计成加热玻璃基板的第一面上的涂层,其特征在于,所述热处理设备还包括预热装置(10’),该预热装置被设计成在加热区域上游加热移动的基板的涂层。

    用低辐射率涂层涂覆的基材

    公开(公告)号:CN109790066A

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201780059166.2

    申请日:2017-09-25

    Abstract: 本发明涉及一种材料,其包含在至少一个面上涂覆有涂层的基材,所述涂层包含第一介电层、润湿层、银层和第二介电层,其特征在于,所述第一和第二介电层中至少一个是基于氧化物的介电层,和氧阻挡层被设置于基于氧化物的介电层和润湿层之间;以及涉及用于获得这种材料的方法,所述方法包括对所述涂层进行激光退火的步骤。

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