公开(公告)号：CN101616644B

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN200880004402.1

申请日：2008-02-27

Applicant: 泰尔茂株式会社

Inventor： 金田一精利 ,  原田恭和 ,  武田和幸

IPC: B05D1/26 ,  B05C5/02 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02 ,  A61F2/82

CPC classification number: A61F2/91 ,  B05D1/002 ,  B05D1/26 ,  B05D1/32

Abstract: 本发明提供一种涂敷方法和涂敷装置，在沿着连续延伸的线状的撑材(S)之间形成有空间部(O)的支架(W)的撑材(S)通过涂敷头(30)的喷嘴(38)涂敷涂敷材料(C)时，从涂敷头(30)向撑材(S)的表面连续地涂敷涂敷材料(C)，在医疗用设备的空间部中不会产生网、桥，能够以极佳的精度形成厚度均匀的涂敷层。

公开(公告)号：CN101616644A

公开(公告)日：2009-12-30

申请号：CN200880004402.1

申请日：2008-02-27

Applicant: 泰尔茂株式会社

Inventor： 金田一精利 ,  原田恭和 ,  武田和幸

IPC: A61F2/84 ,  B05C5/00 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26

CPC classification number: A61F2/91 ,  B05D1/002 ,  B05D1/26 ,  B05D1/32

Abstract: 本发明提供一种涂敷方法和涂敷装置，在沿着连续延伸的线状的撑材(S)之间形成有空间部(O)的支架(W)的撑材(S)通过涂敷头(30)的喷嘴(38)涂敷涂敷材料(C)时，从涂敷头(30)向撑材(S)的表面连续地涂敷涂敷材料(C)，在医疗用设备的空间部中不会产生网、桥，能够以极佳的精度形成厚度均匀的涂敷层。

公开(公告)号：CN105578996B

公开(公告)日：2018-07-03

申请号：CN201480053338.1

申请日：2014-09-22

Applicant: 泰尔茂株式会社

Inventor： 丸山和宏 ,  黑田康之 ,  渡边将生 ,  武田和幸

IPC: A61F2/915 ,  B05C5/00

CPC classification number: A61F2/91 ,  A61F2240/001 ,  A61F2250/0067 ,  B05B14/00 ,  B05B15/52 ,  B05C5/0216 ,  B05C5/0225 ,  B05C11/1021 ,  B05C13/02 ,  B05D1/02

Abstract: 本发明提供一种支架的制造方法及涂布装置，所述方法中，由伴随支架的扩张变形的应力集中或应变导致的药物的剥离或脱落被抑止，且药效的均匀性及制造时的材料利用率进一步提高。所述方法包括未包覆部形成工序，通过下述步骤防止药物涂布于弯曲部：喷嘴(266)到达弯曲部(31)时，使喷嘴越过弯曲部向主支撑部(32)、(33)移动，未包覆部形成工序中，减少喷嘴(266)越过弯曲部移动期间附着于喷嘴的涂布液(a)的附着量。

公开(公告)号：CN105578996A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201480053338.1

申请日：2014-09-22

Applicant: 泰尔茂株式会社

Inventor： 丸山和宏 ,  黑田康之 ,  渡边将生 ,  武田和幸

IPC: A61F2/915 ,  B05C5/00

CPC classification number: A61F2/91 ,  A61F2240/001 ,  A61F2250/0067 ,  B05B14/00 ,  B05B15/52 ,  B05C5/0216 ,  B05C5/0225 ,  B05C11/1021 ,  B05C13/02 ,  B05D1/02

Abstract: 本发明提供一种支架的制造方法及涂布装置，所述方法中，由伴随支架的扩张变形的应力集中或应变导致的药物的剥离或脱落被抑止，且药效的均匀性及制造时的材料利用率进一步提高。所述方法包括未包覆部形成工序，通过下述步骤防止药物涂布于弯曲部：喷嘴(266)到达弯曲部(31)时，使喷嘴越过弯曲部向主支撑部(32)、(33)移动，未包覆部形成工序中，减少喷嘴(266)越过弯曲部移动期间附着于喷嘴的涂布液(a)的附着量。