化妆料
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102046144A

    公开(公告)日:2011-05-04

    申请号:CN200980121167.0

    申请日:2009-03-04

    Inventor: 细川稔

    CPC classification number: A61Q5/02 A61K8/8158 A61Q5/12 A61Q19/10

    Abstract: 一种化妆料,其特征在于,含有:两性表面活性剂或阴离子性表面活性剂,以及(B)含有下述通式(1)所示的单体单元70~95摩尔%和下述通式(2)所示的单体单元5~30摩尔%作为结构单元的丙烯酸系聚合物,(A)/(B)所示的质量比为0.1~50.0。(式中,R1表示氢原子或甲基,R2表示氢原子或-CH2OH基,A表示氧原子或-NH-、R3表示氢原子或甲基,M表示氢原子、碱金属原子、铵或胺)。

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