半导体装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103165677A

    公开(公告)日:2013-06-19

    申请号:CN201210541065.8

    申请日:2012-12-13

    Inventor: 安藤孝由

    CPC classification number: H01L27/0255 H01L27/0617 H01L29/866

    Abstract: 一种半导体装置,能够获取更大的能够配置栅极焊盘的区域。半导体装置包括:晶体管,具有栅极电极、第1电极和第2电极;以及第1及第2保护电路,一端共同与栅极电极连接,另一端分别与第1电极及第2电极连接,第1及第2保护电路分别构成于在一个场绝缘膜上分离形成的第1及第2多晶硅层内。

    半导体装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103165677B

    公开(公告)日:2017-05-03

    申请号:CN201210541065.8

    申请日:2012-12-13

    Inventor: 安藤孝由

    CPC classification number: H01L27/0255 H01L27/0617 H01L29/866

    Abstract: 一种半导体装置,能够获取更大的能够配置栅极焊盘的区域。半导体装置包括:晶体管,具有栅极电极、第1电极和第2电极;以及第1及第2保护电路,一端共同与栅极电极连接,另一端分别与第1电极及第2电极连接,第1及第2保护电路分别构成于在一个场绝缘膜上分离形成的第1及第2多晶硅层内。

    半导体装置
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203103306U

    公开(公告)日:2013-07-31

    申请号:CN201220688640.2

    申请日:2012-12-13

    Inventor: 安藤孝由

    CPC classification number: H01L27/0255 H01L27/0617 H01L29/866

    Abstract: 一种半导体装置,能够获取更大的能够配置栅极焊盘的区域。半导体装置包括:晶体管,具有栅极电极、第1电极和第2电极;以及第1及第2保护电路,一端共同与栅极电极连接,另一端分别与第1电极及第2电极连接,第1及第2保护电路分别构成于在一个场绝缘膜上分离形成的第1及第2多晶硅层内。

    半导体装置
    4.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203377216U

    公开(公告)日:2014-01-01

    申请号:CN201320417067.6

    申请日:2012-12-13

    Inventor: 安藤孝由

    CPC classification number: H01L27/0255 H01L27/0617 H01L29/866

    Abstract: 一种半导体装置,能够获取更大的能够配置栅极焊盘的区域。半导体装置包括:晶体管,具有栅极电极、第1电极和第2电极;以及第1及第2保护电路,一端共同与栅极电极连接,另一端分别与第1电极及第2电极连接,第1及第2保护电路分别构成于在一个场绝缘膜上分离形成的第1及第2多晶硅层内。

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