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公开(公告)号:CN103165677A
公开(公告)日:2013-06-19
申请号:CN201210541065.8
申请日:2012-12-13
Applicant: 瑞萨电子株式会社
Inventor: 安藤孝由
CPC classification number: H01L27/0255 , H01L27/0617 , H01L29/866
Abstract: 一种半导体装置,能够获取更大的能够配置栅极焊盘的区域。半导体装置包括:晶体管,具有栅极电极、第1电极和第2电极;以及第1及第2保护电路,一端共同与栅极电极连接,另一端分别与第1电极及第2电极连接,第1及第2保护电路分别构成于在一个场绝缘膜上分离形成的第1及第2多晶硅层内。
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公开(公告)号:CN103165677B
公开(公告)日:2017-05-03
申请号:CN201210541065.8
申请日:2012-12-13
Applicant: 瑞萨电子株式会社
Inventor: 安藤孝由
CPC classification number: H01L27/0255 , H01L27/0617 , H01L29/866
Abstract: 一种半导体装置,能够获取更大的能够配置栅极焊盘的区域。半导体装置包括:晶体管,具有栅极电极、第1电极和第2电极;以及第1及第2保护电路,一端共同与栅极电极连接,另一端分别与第1电极及第2电极连接,第1及第2保护电路分别构成于在一个场绝缘膜上分离形成的第1及第2多晶硅层内。
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公开(公告)号:CN203103306U
公开(公告)日:2013-07-31
申请号:CN201220688640.2
申请日:2012-12-13
Applicant: 瑞萨电子株式会社
Inventor: 安藤孝由
IPC: H01L29/423 , H01L29/78 , H01L29/739
CPC classification number: H01L27/0255 , H01L27/0617 , H01L29/866
Abstract: 一种半导体装置,能够获取更大的能够配置栅极焊盘的区域。半导体装置包括:晶体管,具有栅极电极、第1电极和第2电极;以及第1及第2保护电路,一端共同与栅极电极连接,另一端分别与第1电极及第2电极连接,第1及第2保护电路分别构成于在一个场绝缘膜上分离形成的第1及第2多晶硅层内。
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公开(公告)号:CN203377216U
公开(公告)日:2014-01-01
申请号:CN201320417067.6
申请日:2012-12-13
Applicant: 瑞萨电子株式会社
Inventor: 安藤孝由
IPC: H01L29/423 , H01L29/78 , H01L29/739
CPC classification number: H01L27/0255 , H01L27/0617 , H01L29/866
Abstract: 一种半导体装置,能够获取更大的能够配置栅极焊盘的区域。半导体装置包括:晶体管,具有栅极电极、第1电极和第2电极;以及第1及第2保护电路,一端共同与栅极电极连接,另一端分别与第1电极及第2电极连接,第1及第2保护电路分别构成于在一个场绝缘膜上分离形成的第1及第2多晶硅层内。
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