外观修改设备以及用于操作这种设备的方法

    公开(公告)号:CN102067030A

    公开(公告)日:2011-05-18

    申请号:CN200980122859.7

    申请日:2009-06-11

    CPC classification number: G02F1/167 G02F2001/1672 G02F2001/1676 G02F2201/50

    Abstract: 一种外观修改设备(10;30;80;100),用于修改由其覆盖的表面的视觉外观,包括:第一衬底(11),其具有设置在其第一侧上的第一电极(17a,18a;33);第二衬底(12),其与第一衬底(11)的第一侧相对地设置,该第二衬底(12)具有设置在其面向第一衬底(11)的一侧上的第二电极(18a,18b;35);隔离结构(13;32),其将第一衬底(11)和第二衬底(12)隔开,使得第一衬底(11)和第二衬底(12)之间的空间被划分成多个单元(15,16;31a-c;81a-c;101)。该外观修改设备进一步在每个单元(15,16;31a-c;81a-c)中具有其中散布多个颗粒(20;20a,20b)的光学透明流体(19),这些颗粒可通过施加电场而在流体中(19)运动,其中每个单元(15,16;31a-c;81a-c)被配置成使得可通过在第一电极(17a,18a;33)和第二电极(18a,18b;35)之间施加电压而控制单元(15,16;31a-c;81a-c)内的颗粒(20;20a,20b)的分布状态从其中颗粒(20;20a,20b)散布并且被外观修改设备(10;30;80)覆盖的表面的外观由颗粒(20;20a,20b)的光学特性确定的第一分布状态到其中将颗粒(20;20a,20b)集中到第一衬底(11)上提供的第一颗粒集中位点(45;82)和第二衬底(12)上提供的第二颗粒集中位点(46;84)中的至少一个的第二分布状态,所述第二颗粒集中位点(46;84)在与外观修改设备平行的平面内相对于第一颗粒集中位点(45;82)移位。

    外观修改设备以及用于操作这种设备的方法

    公开(公告)号:CN102067030B

    公开(公告)日:2015-02-25

    申请号:CN200980122859.7

    申请日:2009-06-11

    CPC classification number: G02F1/167 G02F2001/1672 G02F2001/1676 G02F2201/50

    Abstract: 一种外观修改设备(10;30;80;100),用于修改由其覆盖的表面的视觉外观,包括:第一衬底(11),其具有设置在其第一侧上的第一电极(17a,18a;33);第二衬底(12),其与第一衬底(11)的第一侧相对地设置,该第二衬底(12)具有设置在其面向第一衬底(11)的一侧上的第二电极(18a,18b;35);隔离结构(13;32),其将第一衬底(11)和第二衬底(12)隔开,使得第一衬底(11)和第二衬底(12)之间的空间被划分成多个单元(15,16;31a-c;81a-c;101)。该外观修改设备进一步在每个单元(15,16;31a-c;81a-c)中具有其中散布多个颗粒(20;20a,20b)的光学透明流体(19),这些颗粒可通过施加电场而在流体中(19)运动,其中每个单元(15,16;31a-c;81a-c)被配置成使得可通过在第一电极(17a,18a;33)和第二电极(18a,18b;35)之间施加电压而控制单元(15,16;31a-c;81a-c)内的颗粒(20;20a,20b)的分布状态从其中颗粒(20;20a,20b)散布并且被外观修改设备(10;30;80)覆盖的表面的外观由颗粒(20;20a,20b)的光学特性确定的第一分布状态到其中将颗粒(20;20a,20b)集中到第一衬底(11)上提供的第一颗粒集中位点(45;82)和第二衬底(12)上提供的第二颗粒集中位点(46;84)中的至少一个的第二分布状态,所述第二颗粒集中位点(46;84)在与外观修改设备平行的平面内相对于第一颗粒集中位点(45;82)移位。

Patent Agency Ranking