公开(公告)号：CN101490533A

公开(公告)日：2009-07-22

申请号：CN200780027374.0

申请日：2007-07-05

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： E·M·H·P·范戴克 ,  M·I·博安法 ,  R·温贝格尔-弗里德尔

IPC: G01N21/64 ,  G02B27/00

CPC classification number: G01N21/6428 ,  G01J3/02 ,  G01J3/021 ,  G01J3/10 ,  G01J3/36 ,  G01J3/4406 ,  G01N21/645 ,  G01N2021/6419 ,  G01N2021/6421 ,  G01N2021/6441 ,  G01N2021/6463

Abstract: 描述了一种用于探测基质(6)上的发光位点的探测系统(100)。所述探测系统(100)通常包括辐照单元(102)，其用于产生至少一个激发辐照束以激发基质(6)上的发光位点。所述至少一个激发辐照束可以是多个激发辐照束。所述探测系统(100)还包括第一光学元件，例如折射元件(25)，其适于接收至少两个具有不同波长或波长范围的辐照束，所述至少两个辐照束为要聚焦在基质上的激发辐照束和/或要从所述基质(6)上的受激发发光位点收集的发光辐照束。所述探测系统(100)还包括光学补偿器，其用于对所述至少两个具有不同波长或波长范围的辐照束中的至少一个进行调节，以便降低或补偿光学像差。本发明还涉及一种对应的探测方法、一种相位板和一种用于设计这种相位板的方法。