移动装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101107571A

    公开(公告)日:2008-01-16

    申请号:CN200680002500.2

    申请日:2006-01-10

    CPC classification number: G03F7/70758 Y10S414/135

    Abstract: 本发明公开了一种特别是用于半导体工业的移动装置(701),该装置包括第一部分,该第一部分包括承载体(714),磁体系统(710)按照分别平行于X方向和Y方向延伸的行和列的模式布置在承载体(714)上。每行和每列上的磁体按照海尔贝克阵列布置,即在每行和每列上的相继的磁体的磁性取向逆时针旋转90°。第二部分包括具有两种类型电线圈的电线圈系统(712),一种类型电线圈与X方向成+45°的角,另一种类型电线圈与X方向成-45°的角。第一部分(714,710)可相对于静止的第二部分(712)在厘米或更大的范围上运动。为了高精度地定位所述第一部分,设有干涉仪系统(731,730)。

    移动装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100541337C

    公开(公告)日:2009-09-16

    申请号:CN200680002500.2

    申请日:2006-01-10

    CPC classification number: G03F7/70758 Y10S414/135

    Abstract: 本发明公开了一种特别是用于半导体工业的移动装置(701),该装置包括第一部分,该第一部分包括承载体(714),磁体系统(710)按照分别平行于X方向和Y方向延伸的行和列的模式布置在承载体(714)上。每行和每列上的磁体按照海尔贝克阵列布置,即在每行和每列上的相继的磁体的磁性取向逆时针旋转90°。第二部分包括具有两种类型电线圈的电线圈系统(712),一种类型电线圈与X方向成+45°的角,另一种类型电线圈与X方向成-45°的角。第一部分(714,710)可相对于静止的第二部分(712)在厘米或更大的范围上运动。为了高精度地定位所述第一部分,设有干涉仪系统(731,730)。

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