公开(公告)号：CN118103955A

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202280068329.4

申请日：2022-09-20

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 后藤修 ,  高间大辉 ,  田中优己

IPC: H01L21/304

Abstract: 提供适于研磨的新型的组合物。提供一种包含作为磨粒的二氧化硅颗粒、碱性化合物和水的研磨用组合物。上述研磨用组合物还包含无机酸铵盐。

公开(公告)号：CN118985038A

公开(公告)日：2024-11-19

申请号：CN202380028802.0

申请日：2023-03-08

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 后藤修 ,  田中优己 ,  土屋公亮

IPC: H01L21/304 ,  C08K3/36 ,  C08L1/08 ,  C08L29/04 ,  C08L33/26 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明提供一种研磨用组合物，其能够得到高的表面品质，且能够提高研磨速率。提供一种研磨用组合物，其包含：作为磨粒的二氧化硅颗粒、碱性化合物、水、作为第1水溶性高分子的纤维素衍生物、作为第2水溶性高分子的聚乙烯醇系聚合物以及作为第3水溶性高分子的含有氮原子的聚合物。在上述研磨用组合物中，第1水溶性高分子的含量C1相对于第2水溶性高分子的含量C2与第3水溶性高分子的含量C3的总计含量的比即C1/(C2+C3)为0.1以上。

公开(公告)号：CN113631679B

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202080023140.4

申请日：2020-03-23

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 山口佳子 ,  后藤修 ,  土屋公亮 ,  市坪大辉

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明所提供的研磨用组合物包含磨粒、作为水溶性高分子的聚乙烯醇系聚合物、碱性化合物及水，且还包含3元以上的多元有机酸(盐)。

公开(公告)号：CN113631679A

公开(公告)日：2021-11-09

申请号：CN202080023140.4

申请日：2020-03-23

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 山口佳子 ,  后藤修 ,  土屋公亮 ,  市坪大辉

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明所提供的研磨用组合物包含磨粒、作为水溶性高分子的聚乙烯醇系聚合物、碱性化合物及水，且还包含3元以上的多元有机酸(盐)。