氧化锆系多孔体
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113631515B

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202080024888.6

    申请日:2020-03-13

    Inventor: 松本和也

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种氧化锆系多孔体,其能够在较短时间内进行粉碎,且抑制了因粉碎而造成的性能降低。本发明的氧化锆系多孔体,在基于压汞法的细孔分布中,总细孔容积为1.0ml/g以上,具有20nm以上且小于100nm的直径的细孔的细孔容积为0.3ml/g以下,且具有100nm以上且1000nm以下的直径的细孔的细孔容积为0.5ml/g以上。

    氧化锆系多孔体
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113631515A

    公开(公告)日:2021-11-09

    申请号:CN202080024888.6

    申请日:2020-03-13

    Inventor: 松本和也

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种氧化锆系多孔体,其能够在较短时间内进行粉碎,且抑制了因粉碎而造成的性能降低。本发明的氧化锆系多孔体,在基于压汞法的细孔分布中,总细孔容积为1.0ml/g以上,具有20nm以上且小于100nm的直径的细孔的细孔容积为0.3ml/g以下,且具有100nm以上且1000nm以下的直径的细孔的细孔容积为0.5ml/g以上。

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