公开(公告)号：CN101654024A

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200910166449.4

申请日：2009-08-17

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 新井义雄 ,  井上望

IPC: B41J2/45 ,  G03G15/00 ,  G03G15/01

CPC classification number: G03G15/326 ,  G03G15/04072 ,  G03G15/043 ,  G06K15/1247

Abstract: 本发明提供一种曝光头、曝光头的控制方法及图像形成装置，其中具备：在与被曝光面的移动方向平行或大致平行的方向上配置了第一发光元件及第二发光元件的基板；对来自第一发光元件及第二发光元件的光进行成像并对被曝光面进行曝光的成像光学系统；和选择第一发光元件及第二发光元件中的任意一个发光元件，并根据驱动信号使其发光，并且另一方面不使未选择的发光元件发光的控制部件。因此，可实现曝光头的长寿命化，并能够抑制曝光头的更换作业频率。

公开(公告)号：CN101654023A

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200910166447.5

申请日：2009-08-17

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 辻野净士 ,  井上望

IPC: B41J2/45 ,  G03G15/00 ,  G03G15/01

CPC classification number: G03G15/326 ,  G03G15/04072 ,  G03G15/043

Abstract: 本发明提供一种能够使曝光头长寿命化并能够抑制曝光头的更换作业的频率的技术。该曝光头具备：第一发光元件组，其具有配设在与被曝光面的移动方向正交或大致正交的方向上的不同位置处的多个发光元件；第二发光元件组，其具有配设在与被曝光面的移动方向正交或大致正交的方向上的不同位置处的多个发光元件，且配设在第一发光元件组的被曝光面的移动方向上；成像光学系统，其使来自发光元件的光成像并对被曝光面进行曝光；控制单元，其根据驱动信号使第一发光元件组和第二发光元件组中的任一个发光元件组发光。

公开(公告)号：CN101105578A

公开(公告)日：2008-01-16

申请号：CN200710106740.3

申请日：2003-05-07

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 宗和健 ,  井上望 ,  三井洋一

IPC: G02B27/00 ,  G02B26/12

Abstract: 本发明提供了一种使光束两次射入偏转反射面的光扫描装置，其目的在于减小扫描线轨迹的弯曲量，或者使之在任意位置上近似为零，或者根据扫描线轨迹的弯曲等来校正扫描线位移，所述扫描装置面向以旋转轴(12)为中心旋转的偏转反射面(11)配置两个固定平面镜(13、14)，使得向偏转反射面(11)入射并反射的光束(a1)在两个固定平面镜(13、14)上依次反射，该被反射的光束(a3)再次向偏转反射面(11)入射并被反射，其中通过设定，使得在将包含向偏转反射面第一次入射的光束(a0)并与旋转轴(12)平行的面设为入射平面时，从所述偏转反射面(11)被第二次反射了的光束(a4)位于入射平面内时的出射光束的中心光线，与偏转反射面(11)取最大旋转角时的光束的中心光线在入射平面上投影所得的直线大致平行。

公开(公告)号：CN101491978B

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN200910005935.8

申请日：2009-01-20

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 宗和健 ,  井上望 ,  野村雄二郎

IPC: B41J2/447 ,  G03G15/00 ,  G02B3/00

CPC classification number: G02B3/0062 ,  G02B3/0031 ,  G02B3/0056 ,  G02B26/10 ,  H04N1/02835 ,  H04N1/12 ,  H04N2201/02431

Abstract: 本发明所要解决的技术问题是提供一种可以提高在玻璃基板上配置了透镜的透镜阵列的脱模性的技术。该行头具有在玻璃基板设置了由树脂形成的透镜的透镜阵列。透镜阵列中，将在第一方向上排列多个透镜后的透镜行在与第一方向正交或大致正交的第二方向上排列多个，在玻璃基板中设置了透镜的区域为透镜区域时，透镜区域在第一方向上的第一方向宽度Wl1和第二方向上的第二方向宽度Wl2为满足下式Wl1＞Wl2的关系。在包含成像光学系统的光轴的第一方向的透镜切断面上，透镜外围部的曲率与透镜中心的曲率具有相反的符号，或具有比透镜中心的曲率小的绝对值。

公开(公告)号：CN102081325A

公开(公告)日：2011-06-01

申请号：CN201010560077.6

申请日：2010-11-24

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 宗和健 ,  井熊健 ,  小泉竜太 ,  井上望

IPC: G03G15/04 ,  G03G15/00

CPC classification number: G03G15/326 ,  B41J2/45 ,  G03G15/04045

Abstract: 一种曝光头以及图像形成装置，其提供一种能够实现发光元件的发光正时控制简单化的技术。所述曝光头具有：发光元件基板，其具有发出光线的第1发光元件、被配置在第1发光元件的第1方向上的第2发光元件、第3发光元件以及第4发光元件；成像光学系统，对由第1发光元件、第2发光元件、第3发光元件以及第4发光元件发出的光进行成像，其中，这些发光元件被配置为，具有下述关系，即，Dr12∶Dr23＝l∶m(l≠m)，其中，l为正整数，m为正整数；Dr12为，所述第1发光元件和所述第3发光元件之间的、在与所述第1方向正交的方向上的距离；Dr23为，所述第3发光元件和所述第4发光元件之间的、在与所述第1方向正交的方向上的距离。

公开(公告)号：CN101178557A

公开(公告)日：2008-05-14

申请号：CN200710186028.9

申请日：2007-11-09

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 新井义雄 ,  井上望

IPC: G03G15/01 ,  G03G15/04 ,  H04N1/04 ,  G06K9/00

CPC classification number: G06K15/1247

Abstract: 本发明公开一种校正值确定方法，其中经过第一过程和第二过程，决定用于校正在X方向排列的各发光元件E的出射光的能量的校正值。在第一过程中，从由来自各发光元件E的出射光形成的多个光斑区域S中，确定以相对于X方向倾斜的P方向作为长轴的椭圆形的光斑区域S。在第二过程中，以第一过程中确定的光斑区域S中P方向的尺寸WP接近目标值W0的方式决定校正值A。

公开(公告)号：CN101117058A

公开(公告)日：2008-02-06

申请号：CN200710140130.5

申请日：2007-08-06

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 野村雄二郎 ,  井上望 ,  小泉龙太 ,  井熊健

IPC: B41J2/447 ,  G03G15/00

Abstract: 行头具有多个发光元件组(295)。在各发光元件组(295)中，多个发光元件(2951)被二维地配置，以使距离(Gx)比距离(Gy)大，其中所述距离(Gx)为在与主扫描方向(MD)相对应的长度方向(LGD)上最上游的发光元件(2951)与最下游的发光元件(2951)的距离，所述距离(Gy)为在与副扫描方向(SD)相对应的宽度方向(LTD)上最上游的发光元件(2951)与最下游的发光元件(2951)的距离。并且，使多个发光元件组(295)呈二维配置，以使主扫描组间隔(Px)比副扫描组间隔(Py)大。

公开(公告)号：CN105378561A

公开(公告)日：2016-03-02

申请号：CN201480039741.9

申请日：2014-08-01

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 井上望 ,  宫前章 ,  柳濑繁广 ,  新藤裕幸

IPC: G03B21/20 ,  H04N5/74

CPC classification number: G02B26/008 ,  G03B21/005 ,  G03B21/14 ,  G03B21/2013 ,  G03B21/204 ,  G03B21/206 ,  H04N9/3158

Abstract: 本发明提供通过简便的构成能够良好地检测在轮产生的不良状况的照明装置及投影机。本发明涉及照明装置(4)，其具备：光源装置(41)；来自光源装置(41)的光所入射的旋转扩散板(48)，其具有第1面、第2面、设置于该第1面的扩散部(49)以及设置于该第1面和该第2面之中的至少一方的检测部(51)；来自扩散部(49)的光所入射的会聚光学系统(47)；检测来自检测部(51)的光的检测器(52)；根据从检测器(52)输出的信号控制光源装置的控制装置(CONT)。检测部(51)设置于与来自光源装置(41)的光入射于扩散部(49)的位置不同的位置。

公开(公告)号：CN101456297B

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：CN200810183753.5

申请日：2008-12-15

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 小泉龙太 ,  井上望 ,  野村雄二郎

IPC: B41J2/45 ,  G06K15/12 ,  H04N1/032 ,  H04N1/19 ,  G03G15/00

Abstract: 一种曝光头、曝光头的控制方法、图像形成装置。曝光头具备成像光学系统LS、第1发光元件(Ea1～Ea4、Eb1～Eb4)、第2发光元件(Ec5～Ec8、Ed5～Ed8)、通过布线(WL)与第1发光元件连接的第1TFT电路(TCa1～TCa4、TCb1～TCb4)、通过布线(WL)与第2发光元件连接的第2TFT电路(TCc5～TCc8、TCd5～TCd8)。在第1TFT电路与第2TFT电路之间，设置第1发光元件(Ea1～Ea4、Eb1～Eb4)及第2发光元件(Ec5～Ec8、Ed5～Ed8)。从而提高与发光元件连接的布线的自由度。

公开(公告)号：CN101364071B

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：CN200810129808.4

申请日：2008-08-07

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 山口健司 ,  井上望 ,  野村雄二郎 ,  井熊健

IPC: G03G15/04 ,  G03G15/043 ,  G03G13/04

Abstract: 本发明提供提高了画质的曝光头及使用了该曝光头的图像形成装置及图像形成方法。本发明的图像形成装置具有：在第一方向上具有旋转轴的感光体鼓(150)；和曝光头(100)，其具有在上述第一方向及与上述第一方向正交的第二方向上配置多个并且具有负的光学倍率的成像光学系统(104)、和配设有发出由一个上述成像光学系统(104)在上述感光体鼓(150)上成像的光的多个发光元件(102)的发光元件基板(101)，由在上述第二方向上配置的成像光学系统(104)成像的光，在上述感光体鼓(150)的上述第二方向的不同位置上成像。