半导体结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN105990305B

    公开(公告)日:2018-11-30

    申请号:CN201510098467.9

    申请日:2015-03-06

    Abstract: 一种半导体结构及其制造方法,该半导体结构包含硅基板、保护层、焊垫、绝缘层、布线层、导电层、阻隔层与导电结构。硅基板具有镂空区、阶梯结构、尖角结构与相对的第一表面与第二表面。阶梯结构与尖角结构环绕镂空区。阶梯结构具有朝向镂空区且依续连接的第一斜面、第三表面与第二斜面。保护层位于硅基板的第一表面上。焊垫位于保护层中,且从镂空区裸露。绝缘层位于阶梯结构的第一斜面、第三表面、第二斜面与第二表面上及尖角结构上。布线层位于绝缘层上与焊垫上。导电层位于布线层上。阻隔层覆盖阶梯结构与尖角结构。导电结构位于阻隔层的开口中的导电层上。本发明能提升半导体结构的良率,且能提高材料选用的便利性。

    半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN107195652A

    公开(公告)日:2017-09-22

    申请号:CN201710550763.7

    申请日:2015-01-19

    Abstract: 一种半导体装置及其制造方法,该半导体装置的制造方法包含下列步骤:使用暂时粘着层将载板贴合于晶圆的第一表面上;于晶圆相对第一表面的第二表面上形成布线层、阻隔层与导电结构,而形成半导体元件;从半导体元件的阻隔层切割至载板,使得半导体元件形成至少一子半导体元件;将紫外光照射于子半导体元件,使得暂时粘着层的粘性消失;以及移除子半导体元件的载板。本发明使得晶片上的影像感测元件不易于制程中被污染,且可降低无尘室设备与技术人员的成本。此外,本发明还可省略紫外光胶带的使用,降低制造成本。

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