公开(公告)号：CN1156876A

公开(公告)日：1997-08-13

申请号：CN96121619.0

申请日：1996-11-02

Applicant: 索尼公司

Inventor： 安芸祐一 ,  稻垣稔 ,  横沟宽治

IPC: G11B7/26

CPC classification number: G03F7/70558 ,  G03F7/704 ,  G11B7/261

Abstract: 一种光盘原模曝光装置，按记录信号调制的第一激光照射在保护层上以对其曝光，并使波长不被保护层敏感的第二激光照在预定元件的预定表面上。按第二激光光量变化测量保护层厚度，控制光量以保持第二激光在预定表面上产生的第二反射光恒量。由第二反射光光量变化可测试预定表面上的缺陷。这样，在曝光期间能进行层厚度和缺陷测试，从而能把层厚度测试、缺陷测试、和曝光合成单一步骤，实现能以低成本简单地进行模压工序的曝光装置。

公开(公告)号：CN1089472C

公开(公告)日：2002-08-21

申请号：CN96121619.0

申请日：1996-11-02

Applicant: 索尼公司

Inventor： 安芸祐一 ,  稻垣稔 ,  横沟宽治

IPC: G11B7/26

CPC classification number: G03F7/70558 ,  G03F7/704 ,  G11B7/261

Abstract: 一种光盘原模曝光装置，按记录信号调制的第一激光照射在保护层上以对其曝光，并使波长不被保护层敏感的第二激光照在预定元件的预定表面上。按第二激光光量变化测量保护层厚度，控制光量以保持第二激光在预定表面上产生的第二反射光恒量。由第二反射光光量变化可测试预定表面上的缺陷。这样，在曝光期间能进行层厚度和缺陷测试，从而能把层厚度测试、缺陷测试、和曝光合成单一步骤，实现能以低成本简单地进行模压工序的曝光装置。