公开(公告)号：CN1775861A

公开(公告)日：2006-05-24

申请号：CN200510099564.6

申请日：2005-09-07

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： G·P·普罗科波维奇 ,  M·K·格拉戈尔

IPC: C08L83/00 ,  C08J5/18 ,  C08K5/04 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/31695 ,  C08G77/045 ,  C08G77/12 ,  C08G77/70 ,  C08J9/26 ,  C08J2201/046 ,  C08J2383/14 ,  C08L83/04 ,  C08L83/14 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3121 ,  H01L21/318 ,  H01L21/7682 ,  H01L2221/1047 ,  C08L2666/04

Abstract: 提供了用于制备多孔有机聚硅石薄膜，尤其是用于制造集成电路的组合物。还提供形成这些组合物和薄膜的方法。

公开(公告)号：CN1877450B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200610079811.0

申请日：2006-05-08

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： G·P·普罗科波维奇 ,  M·K·格拉戈尔

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08K3/36 ,  C09D129/04 ,  C09D133/02 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

Abstract: 在一方面，提供含有组分的涂料组合物，所述组分包括一种或多种硅、锑、铝、钇、铈、镧、锡、钛、锆、铪、铟和/或锌化合物。在另一方面，提供包含许多分立的颗粒的涂料组合物。本发明优选的涂料组合物，尤其是与下面的光刻胶涂层一起可用于减反射目的，以及用于浸渍印刷的阻隔层。

公开(公告)号：CN1877450A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：CN200610079811.0

申请日：2006-05-08

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司

Inventor： G·P·普罗科波维奇 ,  M·K·格拉戈尔

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08K3/36 ,  C09D129/04 ,  C09D133/02 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

Abstract: 在一方面，提供含有组分的涂料组合物，所述组分包括一种或多种硅、锑、铝、钇、铈、镧、锡、钛、锆、铪、铟和/或锌化合物。在另一方面，提供包含许多分立的颗粒的涂料组合物。本发明优选的涂料组合物，尤其是与下面的光刻胶涂层一起可用于减反射目的，以及用于浸渍印刷的阻隔层。