发光装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113833997B

    公开(公告)日:2024-06-18

    申请号:CN202110624740.2

    申请日:2021-06-04

    Inventor: 今堀良政

    Abstract: 本发明涉及一种发光装置,其具有:基板、设置于基板上的多个发光元件和反射片,反射片被设置为在基板上被定位于预定的基准位置,并且具有多个开口分别使发光元件暴露。开口被形成为相对于发光元件中的相应发光元件而第一间距大于第二间距,第一间距位于每个开口与发光元件中的相应发光元件之间并且位于比发光元件中的相应发光元件更远离基准位置的位置处,并且第二间距位于每个开口与发光元件中的相应发光元件之间并且位于比发光元件中的相应发光元件更接近基准位置的位置处。

    发光装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113833997A

    公开(公告)日:2021-12-24

    申请号:CN202110624740.2

    申请日:2021-06-04

    Inventor: 今堀良政

    Abstract: 本发明涉及一种发光装置,其具有:基板、设置于基板上的多个发光元件和反射片,反射片被设置为在基板上被定位于预定的基准位置,并且具有多个开口分别使发光元件暴露。开口被形成为相对于发光元件中的相应发光元件而第一间距大于第二间距,第一间距位于每个开口与发光元件中的相应发光元件之间并且位于比发光元件中的相应发光元件更远离基准位置的位置处,并且第二间距位于每个开口与发光元件中的相应发光元件之间并且位于比发光元件中的相应发光元件更接近基准位置的位置处。

    发光装置和显示装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113759600B

    公开(公告)日:2023-09-19

    申请号:CN202110626395.6

    申请日:2021-06-04

    Abstract: 本发明公开了一种发光装置,所述发光装置包括具有多个发光元件的发光基板,和与发光基板相向设置的亮度均匀片,所述亮度均匀片具有用于透射从所述发光元件照射的光的多个通孔,并且所述亮度均匀片具有与所述发光基板的线性膨胀系数不同的线性膨胀系数,所述发光基板和所述亮度均匀片相对于彼此被定位在预定位置处,至少所述发光基板和所述亮度均匀片中的线性膨胀系数较大的一个具有弯曲形状,并且,在所述发光基板和所述亮度均匀片中,线性膨胀系数较大的一个的弯曲度大于线性膨胀系数较小的一个的弯曲度。

    发光装置和显示装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113759600A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202110626395.6

    申请日:2021-06-04

    Abstract: 本发明公开了一种发光装置,所述发光装置包括具有多个发光元件的发光基板,和与发光基板相向设置的亮度均匀片,所述亮度均匀片具有用于透射从所述发光元件照射的光的多个通孔,并且所述亮度均匀片具有与所述发光基板的线性膨胀系数不同的线性膨胀系数,所述发光基板和所述亮度均匀片相对于彼此被定位在预定位置处,至少所述发光基板和所述亮度均匀片中的线性膨胀系数较大的一个具有弯曲形状,并且,在所述发光基板和所述亮度均匀片中,线性膨胀系数较大的一个的弯曲度大于线性膨胀系数较小的一个的弯曲度。

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