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公开(公告)号：CN103180902B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201180051246.6
申请日：2011-10-26
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C03C15/02 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C09G1/02 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种玻璃硬盘基板的制造方法，其具有将玻璃基板用酸性研磨液进行研磨后进行碱洗涤的工序，其能够在研磨工序中维持研磨速度的状态下、抑制碱洗涤工序中的玻璃基板的表面粗糙度的恶化、进而还能够提高清洁性。一种玻璃硬盘基板的制造方法，其包括以下工序(1)及(2)：(1)使用含有分子内具有2～10个氮原子的多元胺化合物的pH1.0～4.2的研磨液组合物，对被研磨玻璃基板进行研磨的工序；(2)将工序(1)中获得的基板，用pH8.0～13.0的洗涤剂组合物进行洗涤的工序。
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公开(公告)号：CN107532115A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680024905.X
申请日：2016-06-09
Applicant: 花王株式会社
Inventor： 青野信幸
CPC classification number: C11D3/30 , C11D1/002 , C11D1/22 , C11D3/37 , C11D11/0035 , G11B5/84 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种清洗性较高且可抑制基板的表面粗糙度恶化的玻璃制硬盘基板用清洗剂组合物。在一个实施方式中，本发明涉及一种玻璃制硬盘基板用清洗剂组合物，其含有下述式(I)所表示的胺(成分A)及下述式(II)所表示的表面活性剂(成分B)。
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公开(公告)号：CN104853853B
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201380063534.2
申请日：2013-12-03
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: G11B23/505 , C11D1/02 , C11D1/72 , C11D3/04 , C11D3/044 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D7/06 , C11D7/3209 , C11D11/0035
Abstract: 本发明提供一种抑制在碱清洗中的玻璃基板表面粗糙度变差、可进一步提高清洗性的玻璃基板的清洗方法。在一种或数种实施方式中，本发明的玻璃基板的清洗方法包括使被清洗玻璃基板与清洗剂组合物接触，所述清洗剂组合物含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺以及无机碱，相对于所述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，所述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下，所述被清洗玻璃基板为结晶化玻璃基板，清洗时的清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104853853A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201380063534.2
申请日：2013-12-03
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: G11B23/505 , C11D1/02 , C11D1/72 , C11D3/04 , C11D3/044 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D7/06 , C11D7/3209 , C11D11/0035
Abstract: 本发明提供一种抑制在碱清洗中的玻璃基板表面粗糙度变差、可进一步提高清洗性的玻璃基板的清洗方法。在一种或数种实施方式中，本发明的玻璃基板的清洗方法包括使被清洗玻璃基板与清洗剂组合物接触，所述清洗剂组合物含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺以及无机碱，相对于所述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，所述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下，所述被清洗玻璃基板为结晶化玻璃基板，清洗时的清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。
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公开(公告)号：CN103180902A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201180051246.6
申请日：2011-10-26
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C03C15/02 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C09G1/02 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种玻璃硬盘基板的制造方法，其具有将玻璃基板用酸性研磨液进行研磨后进行碱洗涤的工序，其能够在研磨工序中维持研磨速度的状态下、抑制碱洗涤工序中的玻璃基板的表面粗糙度的恶化、进而还能够提高清洁性。一种玻璃硬盘基板的制造方法，其包括以下工序(1)及(2)：(1)使用含有分子内具有2～10个氮原子的多元胺化合物的pH1.0～4.2的研磨液组合物，对被研磨玻璃基板进行研磨的工序；(2)将工序(1)中获得的基板，用pH8.0～13.0的洗涤剂组合物进行洗涤的工序。
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公开(公告)号：WO2012057217A1
公开(公告)日：2012-05-03
申请号：PCT/JP2011/074694
申请日：2011-10-26
CPC classification number: C03C15/02 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C09G1/02 , G11B5/8404
Abstract: ガラス基板を酸性研磨液で研磨した後にアルカリ洗浄する工程を有するガラスハードディスク基板の製造方法であって、研磨工程において研磨速度を維持したまま、アルカリ洗浄工程におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに清浄性を向上できるガラスハードディスク基板の製造方法の提供。 以下の工程（１）及び（２）を含むガラスハードディスク基板の製造方法； （１）分子内に窒素原子を２～１０個有する多価アミン化合物を含有するｐＨ１．０～４．２の研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程； （２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ８．０～１３．０の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。
Abstract translation: 一种玻璃硬盘基板的制造方法，其特征在于，包括用酸性研磨液研磨玻璃基板的研磨工序，以及对所得到的玻璃基板进行碱清洗后的碱洗涤工序，能够抑制玻璃基板的表面粗糙度劣化 玻璃基板，并且可以在抛光步骤中保持高抛光速率的同时获得改善的清洁度。 该方法包括：对玻璃基板进行抛光处理的步骤（1），该抛光液组合物含有分子内具有2〜10个氮原子的多胺化合物，其pH为1.0〜4.2; 以及使用pH为8.0〜13.0的清洁剂组合物对在工序（1）中研磨的基板进行清洗的工序（2）。
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公开(公告)号：WO2016208412A1
公开(公告)日：2016-12-29
申请号：PCT/JP2016/067228
申请日：2016-06-09
Applicant: 花王株式会社
Inventor： 青野信幸
CPC classification number: C11D3/30 , B08B3/08 , C11D1/002 , C11D1/22 , C11D3/37 , C11D11/0035 , G11B5/84 , G11B5/8404
Abstract: 洗浄性が高く、基板の表面粗さの悪化が抑制されうるガラス製ハードディスク基板用洗浄剤組成物を提供する。 本開示は、一実地形態において、下記式（Ｉ）で表されるアミン（成分Ａ）及び下記式（ＩＩ）で表される界面活性剤（成分Ｂ）を含有する、ガラス製ハードディスク基板用洗浄剤組成物に関する。
Abstract translation: 本发明提供一种玻璃硬盘基板用清洗剂组合物，其具有高清洗性，能够抑制基材表面粗糙度的劣化。 本发明的一个实施方案涉及含有由式（I）表示的胺（组分A）和由式（II）表示的表面活性剂（组分B））的玻璃硬盘基材用清洁剂组合物。
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公开(公告)号：WO2014087995A1
公开(公告)日：2014-06-12
申请号：PCT/JP2013/082468
申请日：2013-12-03
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: G11B23/505 , C11D1/02 , C11D1/72 , C11D3/04 , C11D3/044 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D7/06 , C11D7/3209 , C11D11/0035
Abstract: アルカリ洗浄におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに洗浄性を向上できるガラス基板の洗浄方法の提供。一又は複数の実施形態において、被洗浄ガラス基板に洗浄剤組成物を接触させることを含み、前記洗浄剤組成物が、窒素原子を１個以上１０個以下含むアミンと、無機アルカリとを含有し、前記アミンの含有量が、前記洗浄剤組成物の水以外の成分の合計質量に対して５．００質量％以上７０．００質量％以下であり、前記被洗浄ガラス基板が結晶化ガラス基板であり、洗浄時の洗浄剤組成物のｐＨが９．００以上１１．５０以下である、ガラス基板の洗浄方法に関する。
Abstract translation: 提供一种清洗玻璃基板的方法，其中碱性清洗中的玻璃基板的表面粗糙度的降低最小化并且清洗性能提高。 在一个或多个实施方案中，本发明涉及一种用于清洁玻璃基板的方法，包括使清洗剂组合物与待清洁的玻璃基板接触，所述清洁剂组合物包含含有1-10个氮原子的胺和无机碱 相对于除了水以外的清洗剂组合物的组分的总质量，胺含量为5.00-70.00质量％，待清洁的玻璃基底为结晶玻璃基材，清洗时的清洗剂组合物的pH为 9.00-11.50。
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