-
公开(公告)号：TW201921409A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107134289
申请日：2018-09-28
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 張劍 , ZHANG, JIAN , 康志文 , KANG, ZHIWEN , 王 義向 , WANG, YIXIANG
Abstract: 本發明揭示一種用於一帶電粒子束檢測系統中之光學系統。該光學系統包括一或多個光學透鏡及一補償透鏡，該補償透鏡經組態以補償該一或多個光學透鏡之一組合的一焦距自一第一介質至一第二介質的一漂移。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于一带电粒子束检测系统中之光学系统。该光学系统包括一或多个光学透镜及一补偿透镜，该补偿透镜经组态以补偿该一或多个光学透镜之一组合的一焦距自一第一介质至一第二介质的一漂移。
-
公开(公告)号：TWI684001B
公开(公告)日：2020-02-01
申请号：TW107134541
申请日：2018-09-28
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 張劍 , ZHANG, JIAN , 陳慶久 , CHEN, QING JIU , 王 義向 , WANG, YIXIANG
-
Search Results
2
records
(took 0.036 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
