公开(公告)号：TW201816160A

公开(公告)日：2018-05-01

申请号：TW107105435

申请日：2013-09-30

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 戴迪西爾維亞 ,  DE DEA,SILVIA ,  維斯晨庫喬治 O. ,  VASCHENKO,GEORGIY O. ,  包姆加特彼得 ,  BAUMGART,PETER ,  伯威林諾貝特 R. ,  BOWERING,NORBERT R.

IPC: C23C14/34

Abstract: 一種用於超紫外(EUV)光源之靶材供給裝置包括一管，該管包括一第一端、一第二端及一界定在該等第一與第二端之間的側壁。該管之一外表面之至少一部份包括一電絕緣材料，該第一端收納一加壓靶材，且該第二端界定一孔口，並且該加壓靶材通過該孔口以產生一靶材微滴流。該靶材供給裝置亦包括一在該管之外表面上的導電塗層。該塗層係構形成使該管之外表面電氣地接地以藉此減少在該外表面上之表面電荷。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于超紫外(EUV)光源之靶材供给设备包括一管，该管包括一第一端、一第二端及一界定在该等第一与第二端之间的侧壁。该管之一外表面之至少一部份包括一电绝缘材料，该第一端收纳一加压靶材，且该第二端界定一孔口，并且该加压靶材通过该孔口以产生一靶材微滴流。该靶材供给设备亦包括一在该管之外表面上的导电涂层。该涂层系构形成使该管之外表面电气地接地以借此减少在该外表面上之表面电荷。

公开(公告)号：TWI647324B

公开(公告)日：2019-01-11

申请号：TW107105435

申请日：2013-09-30

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 戴迪西爾維亞 ,  DE DEA,SILVIA ,  維斯晨庫喬治 O. ,  VASCHENKO,GEORGIY O. ,  包姆加特彼得 ,  BAUMGART,PETER ,  伯威林諾貝特 R. ,  BOWERING,NORBERT R.

IPC: C23C14/34