公开(公告)号：TW201921167A

公开(公告)日：2019-06-01

申请号：TW108100498

申请日：2017-10-17

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 寇偉田 ,  KOU,WEITIAN ,  伊瑪亞力山大 ,  YPMA,ALEXANDER ,  霍特曼馬克 ,  HAUPTMANN,MARC ,  庫柏斯米切爾 ,  KUPERS,MICHIEL ,  維蓋茲-輝澤莉迪亞 瑪麗安娜 ,  VERGAIJ-HUIZER,LYDIA MARIANNA ,  瓦勒伯斯艾瑞克 裘漢斯 瑪麗亞 ,  WALLERBOS,ERIK JOHANNES MARIA ,  德爾維尼艾瑞克 亨利 亞德里安 ,  DELVIGNE,ERIK HENRI ADRIAAN ,  羅伊羅夫斯威廉 賽納 克里斯汀 ,  ROELOFS,WILLEM SEINE CHRISTIAN ,  希可利哈奇 爾金 ,  CEKLI,HAKKI ERGUN ,  凡 德 山登史帝芬 柯尼里斯 李歐朵魯斯 ,  VAN DER SANDEN,STEFAN CORNELIS THEODORUS ,  高斯達席德瑞克 迪賽爾 ,  GROUWSTRA,CEDRIC DESIRE ,  戴克司大衛 法蘭斯 賽門 ,  DECKERS,DAVID FRANS SIMON ,  吉歐羅曼紐爾 ,  GIOLLO,MANUEL ,  道芙布希伊莉娜 ,  DOVBUSH,IRYNA

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本發明揭示一種判定與一基板上之一微影製程有關的一製程參數之一校正的方法及相關聯裝置。該微影製程包含複數個輪次，在該複數個輪次中之每一者期間，將一圖案施加至一或多個基板。該方法包含獲得描述該基板之一屬性的曝光前度量衡資料；獲得包含已對一或多個先前曝光基板執行的對該製程參數之一或多個量測的曝光後度量衡資料；基於該曝光前度量衡資料，將來自一或多個群組之一群組隸屬狀態指派給該基板；及基於該群組隸屬狀態及該曝光後度量衡資料，判定該製程參數之該校正。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种判定与一基板上之一微影制程有关的一制程参数之一校正的方法及相关联设备。该微影制程包含复数个轮次，在该复数个轮次中之每一者期间，将一图案施加至一或多个基板。该方法包含获得描述该基板之一属性的曝光前度量衡数据；获得包含已对一或多个先前曝光基板运行的对该制程参数之一或多个量测的曝光后度量衡数据；基于该曝光前度量衡数据，将来自一或多个群组之一群组隶属状态指派给该基板；及基于该群组隶属状态及该曝光后度量衡数据，判定该制程参数之该校正。

公开(公告)号：TWI685724B

公开(公告)日：2020-02-21

申请号：TW108100498

申请日：2017-10-17

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： 寇偉田 ,  KOU,WEITIAN ,  伊瑪亞力山大 ,  YPMA,ALEXANDER ,  霍特曼馬克 ,  HAUPTMANN,MARC ,  庫柏斯米切爾 ,  KUPERS,MICHIEL ,  維蓋茲-輝澤莉迪亞 瑪麗安娜 ,  VERGAIJ-HUIZER,LYDIA MARIANNA ,  瓦勒伯斯艾瑞克 裘漢斯 瑪麗亞 ,  WALLERBOS,ERIK JOHANNES MARIA ,  德爾維尼艾瑞克 亨利 亞德里安 ,  DELVIGNE,ERIK HENRI ADRIAAN ,  羅伊羅夫斯威廉 賽納 克里斯汀 ,  ROELOFS,WILLEM SEINE CHRISTIAN ,  希可利哈奇 爾金 ,  CEKLI,HAKKI ERGUN ,  凡 德 山登史帝芬 柯尼里斯 李歐朵魯斯 ,  VAN DER SANDEN,STEFAN CORNELIS THEODORUS ,  高斯達席德瑞克 迪賽爾 ,  GROUWSTRA,CEDRIC DESIRE ,  戴克司大衛 法蘭斯 賽門 ,  DECKERS,DAVID FRANS SIMON ,  吉歐羅曼紐爾 ,  GIOLLO,MANUEL ,  道芙布希伊莉娜 ,  DOVBUSH,IRYNA

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027