一种用于中红外探测器的响应率测量装置及方法

    公开(公告)号:CN119533682A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202411716242.0

    申请日:2024-11-27

    Abstract: 本发明公开了一种用于中红外探测器的响应率测量装置及方法,解决了中红外探测器响应率标定中响应率随温度变化和/或探测器光敏面较小时,实际入射探测器的功率密度测量不准的问题,本发明利用激光功率计可以测量出测量激光的激光总功率,利用光斑分析仪可以测量出入射至探测器光敏面的中心区域光斑功率与光斑总功率的比值,进而准确测量计算出入射至探测器光敏面的功率密度值,提高中红外探测器响应率的测量精度。

    一种基于多重反射的光压测量装置及方法

    公开(公告)号:CN118836975A

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN202410861110.0

    申请日:2024-06-28

    Abstract: 本发明涉及激光参数测量装置及方法,具体涉及一种基于多重反射的光压测量装置及方法,为解决现有基于多重反射的光压测量装置中光压传感反射镜与隔热材料自重过大侵占高精度天平量程,以及待测激光多重反射引起的透射光总能量增大导致天平托盘表面产生温升,进而影响天平测量结果稳定性和准确性的技术问题,光压测量装置包括高精度天平、隔热支架、隔热罩、N级光压传感反射镜以及M级转折反射镜,其中,N≥2,M=N+1;M级转折反射镜设置在N级光压传感反射镜上方;隔热罩设置在高精度天平外部,将高精度天平与外部环境隔离,隔热支架与隔热罩之间设有间距;同时还提供一种利用上述装置进行光压测量的方法。

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