公开(公告)号：TW285713B

公开(公告)日：1996-09-11

申请号：TW085101658

申请日：1996-02-10

Applicant: 迪斯可維馨關係企業公司

Inventor： 伊凡.普林克羅 ,  哈里斯.歐尼爾.賀爾二世

IPC: G01B

CPC classification number: G01J3/45 ,  G01J3/4535 ,  G01J9/02

Abstract: 一種干涉計包括將源光束分成測試光束及參考光束之分光器、用於偵測參考圖樣之映像裝置、置於該測試光束路徑中且可將測試光束朝映像裝置反射的鏡面、置於該參考光束路徑中且可將參考光束朝映像裝置反射的微鏡面、置於分光器及微鏡面之間的參考光束路徑中且可將參考光束聚焦在微鏡面上之聚焦機構。該微鏡面之橫方向尺寸不超過由該聚焦機構聚焦在該微鏡面之參考光束中心瓣的約略橫向尺寸。一減低光束中的像差效應之空間過濾器包括位於透明基座的反射鏡，其中該反射鏡面橫方向的大小不超過聚焦在該反射鏡面上之該光束的空間強度分佈的中心瓣之約略橫向大小。本發明亦提供在波前量測係統中過濾一光束的方法。此方法包含聚焦光束、反射該聚焦光束中特別的第一部份、及傳輸該光束的第二部份。

Abstract in simplified Chinese: 一种干涉计包括将源光束分成测试光束及参考光束之分光器、用于侦测参考图样之图像设备、置于该测试光束路径中且可将测试光束朝图像设备反射的镜面、置于该参考光束路径中且可将参考光束朝图像设备反射的微镜面、置于分光器及微镜面之间的参考光束路径中且可将参考光束聚焦在微镜面上之聚焦机构。该微镜面之横方向尺寸不超过由该聚焦机构聚焦在该微镜面之参考光束中心瓣的约略横向尺寸。一减低光束中的像差效应之空间过滤器包括位于透明基座的反射镜，其中该反射镜面横方向的大小不超过聚焦在该反射镜面上之该光束的空间强度分布的中心瓣之约略横向大小。本发明亦提供在波前量测系统中过滤一光束的方法。此方法包含聚焦光束、反射该聚焦光束中特别的第一部份、及传输该光束的第二部份。