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公开(公告)号：CN101325091A
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：CN200810099667.6
申请日：2008-06-13
Applicant: 通用电气公司
IPC: G21C1/08 , G21C17/10 , G21C17/022
CPC classification number: G21C17/032 , G01F1/6888 , G01F23/242 , G01F23/247 , G01F23/284 , G01P5/10 , G21C17/035 , G21Y2002/30 , G21Y2004/302
Abstract: 本发明涉及用于确定核反应堆中的冷却剂水平和流速的系统和方法，一种沸水反应堆(10)包括反应堆压力容器(12)，其具有用于将再循环的蒸汽冷凝物和/或补给冷却剂引入至容器(12)内的给水进口(14)和用于排出所产生的蒸汽以用于合适操作的蒸汽出口(16)。燃料芯部(18)位于压力容器(2)的下部区域内。燃料芯部(18)由芯部护罩(20)所围绕，该芯部护罩(20)与压力容器(12)的壁向内间隔，以提供在容器壁和芯部护罩(20)之间形成冷却剂流径的环形下降管(22)。探测器系统(40)包括传导率/阻性探测器(42，44)和/或一个或多个时域反射(TDR)探测器(46)的组合，并且至少部分地位于下降管(22)内。探测器系统(40)测量下降管(22)内的冷却剂水平(38)和流速。
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公开(公告)号：CN101749428A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910253595.0
申请日：2009-12-04
Applicant: 通用电气公司
IPC: F16J15/16
CPC classification number: F16J15/445 , F16J15/3224
Abstract: 本发明涉及用于旋转机器的适应性箔片密封件。具体而言，一种适应性箔片密封件(10，30)包括底部箔片(11，31)以及一个或多个上部箔片(12，13，32)，该底部箔片(11，31)构造成周向地围绕转子(22，42)的至少一部分定位，该一个或多个上部箔片(12，13，32)构造成用以与定子(21，41)相配合以将底部箔片(11，31)定位成适应性地面对转子(22，42)并且位于定子(21，41)与转子(22，42)之间。还提出了一种适应性箔片密封组件以及一种旋转机器(20，40)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101325091B
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN200810099667.6
申请日：2008-06-13
Applicant: 通用电气公司
IPC: G21C1/08 , G21C17/10 , G21C17/022
CPC classification number: G21C17/032 , G01F1/6888 , G01F23/242 , G01F23/247 , G01F23/284 , G01P5/10 , G21C17/035 , G21Y2002/30 , G21Y2004/302
Abstract: 本发明涉及用于确定核反应堆中的冷却剂水平和流速的系统和方法，一种沸水反应堆(10)包括反应堆压力容器(12)，其具有用于将再循环的蒸汽冷凝物和/或补给冷却剂引入至容器(12)内的给水进口(14)和用于排出所产生的蒸汽以用于合适操作的蒸汽出口(16)。燃料芯部(18)位于压力容器(2)的下部区域内。燃料芯部(18)由芯部护罩(20)所围绕，该芯部护罩(20)与压力容器(12)的壁向内间隔，以提供在容器壁和芯部护罩(20)之间形成冷却剂流径的环形下降管(22)。探测器系统(40)包括传导率/阻性探测器(42，44)和/或一个或多个时域反射(TDR)探测器(46)的组合，并且至少部分地位于下降管(22)内。探测器系统(40)测量下降管(22)内的冷却剂水平(38)和流速。
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公开(公告)号：CN101392687A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200810168007.9
申请日：2008-09-17
Applicant: 通用电气公司
IPC: F02C7/12
Abstract: 本发明涉及一种用于增强涡轮机性能的冷却回路。在具有压缩机排气箱的燃气涡轮机中，冷却回路朝着高压充填(HPP)回路使压缩机排气转向。冷却回路包括接收压缩机排气的进气管(14)。一个或几个已冷却的冷却空气管(16)经由歧管(18)与进气管成流体连通，该歧管使排气穿过已冷却的冷却空气管而分散。把密封装置(12)设置在HPP回路的入口上游以限制气流进入HPP回路中，并且在叶轮空间处把第二密封装置(12)设置在HPP回路下游，以限制气吞和因此所需的清洗空气流。回路用做来减少在HPP回路中所需的清洗气流，以便可以把一定的压缩机排气量返回到主要流程，由此改进涡轮机性能。
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公开(公告)号：CN101324271A
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：CN200810099673.1
申请日：2008-06-13
Applicant: 通用电气公司
IPC: F16J15/16
CPC classification number: F16J15/3452 , F01D11/003 , F01D11/12 , F02C7/28 , F05D2240/56 , F05D2240/57 , F16J15/3208 , F16J15/3224 , F16J15/3288
Abstract: 本发明涉及用于回转机械的密封组件，具体而言，提供了一种密封组件(10)。该密封组件(10)包括周向地围绕旋转构件(12)布置的箔片(14)，以及邻近箔片(14)布置的弹簧系统(20)，箔片(14)构造成给位于高压侧和低压侧(16，18)之间的旋转构件(12)提供主要密封。该弹簧系统(20)包括多个特征(44)，以便于所述箔片表面跟随所述旋转构件(12)的偏移，其中多个特征(44)在箔片(14)和固定构件之间提供从高压侧至低压侧(16，18)的辅助密封。
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公开(公告)号：CN1837581B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200510107102.4
申请日：2005-09-30
Applicant: 通用电气公司
Inventor： F·加斯里普尔 , S·奥塔 , N·A·图尔恩奎斯特 , B·方 , C·A·弗莱克三世 , J·W·斯特格迈尔 , G·H·尼科尔斯 , J·C·普日图尔斯基 , K·G·布林克 , R·C·利金斯 , J·R·泰森 , M·F·阿克西特
CPC classification number: F04D29/126
Abstract: 提供了用于旋转机器的顺性的密封组件。密封组件包括静止的构件、活动的构件和偏置构件.静止的构件在它的前和后端刚性地固定到机器。活动的部分具有配置为对旋转的构件密封的第一密封表面和后表面，后表面可以暴露于流体压力以朝向与旋转的构件的密封位置推动第一密封表面。该静止的和该活动的构件还包括在它们的前、后和端面的密封表面，以密封在静止的和活动的构件之间的气体泄漏。该偏置构件配置为在静止的构件上支撑活动的构件，并且推动活动的构件远离密封位置，使得减小在旋转的构件与活动的构件的第一密封表面接触期间，作用在旋转的构件上的力。
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公开(公告)号：CN1837581A
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN200510107102.4
申请日：2005-09-30
Applicant: 通用电气公司
Inventor： F·加斯里普尔 , S·奥塔 , N·A·图尔恩奎斯特 , B·方 , C·A·弗莱克三世 , J·W·斯特格迈尔 , G·H·尼科尔斯 , J·C·普日图尔斯基 , K·G·布林克 , R·C·利金斯 , J·R·泰森 , M·F·阿克西特
IPC: F01D11/00
CPC classification number: F04D29/126
Abstract: 提供了用于旋转机器的顺性的密封组件。密封组件包括静止的构件、活动的构件和偏置构件。静止的构件在它的前和后端刚性地固定到机器。活动的部分具有配置为对旋转的构件密封的第一密封表面和后表面，后表面可以暴露于流体压力以朝向与旋转的构件的密封位置推动第一密封表面。该静止的和该活动的构件还包括在它们的前、后和端面的密封表面，以密封在静止的和活动的构件之间的气体泄漏。该偏置构件配置为在静止的构件上支撑活动的构件，并且推动活动的构件远离密封位置，使得减小在旋转的构件与活动的构件的第一密封表面接触期间，作用在旋转的构件上的力。
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