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1.液體管理裝置、方法與系統 LIQUID MANAGEMENT DEVICE, METHOD AND SYSTEM 审中-公开
Simplified title: 液体管理设备、方法与系统 LIQUID MANAGEMENT DEVICE, METHOD AND SYSTEM公开(公告)号:TW200846291A
公开(公告)日:2008-12-01
申请号:TW097102025
申请日:2008-01-18
Applicant: 通用電機股份有限公司 GENERAL ELECTRIC COMPANY
Inventor: 蔡巍 CAI, WEI , 菲利普 羅奇哥 ROLCHIGO, PHILIP MATHEW , 衛昶 WEI, CHANG , 熊日華 XIONG, RIHUA , 曹雷 CAO, LEI , 杜宇 DU, YU
IPC: C02F
CPC classification number: C02F1/4604 , C02F1/04 , C02F1/441 , C02F1/4691 , C02F1/4693 , C02F1/4695 , C02F2103/08 , C02F2201/4611 , C02F2209/006 , Y02A20/128 , Y02A20/131 , Y02A20/134
Abstract: 本發明提供一種方法及裝置,其將來自帶有溶質的電極之溶質排放到排放液流裡。該排放液流所具有的溶質濃度比該帶有溶質的電極取得該溶質之供料流的溶質濃度為高。本發明也提供一種系統。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种方法及设备,其将来自带有溶质的电极之溶质排放到排放液流里。该排放液流所具有的溶质浓度比该带有溶质的电极取得该溶质之供料流的溶质浓度为高。本发明也提供一种系统。