公开(公告)号：CN102171549B

公开(公告)日：2013-08-07

申请号：CN200980138678.3

申请日：2009-07-31

Applicant: 霍尼韦尔阿斯卡公司

Inventor： F.M.哈兰 ,  P.穆萨维 ,  D.耶斯 ,  S.多奇

IPC: G01N21/25 ,  G01B11/00

CPC classification number: D21F7/06 ,  D21F7/003 ,  D21G9/0009 ,  G01N21/3563 ,  G01N21/3586 ,  G01N21/86

Abstract: 一种用于在由制造系统（700）生产时的片材的性质的非接触表征的现场的基于时域频谱（TDS）的方法（200）。提供时域频谱系统（100）和用于系统（100）的校准数据。校准数据包括作为片材的含湿量的函数的、通过片材透射的功率或者从片材反射的功率的数据。将来自透射机（111）的THz或近THz辐射的至少一个脉冲引导至正由制造系统（700）处理的片材样本（130）上的样本位置处。由检测器（110）同步检测与来自样本位置的至少一个透射脉冲或反射脉冲相关联的透射辐射或反射辐射以获得样本数据。连同校准数据（207、208、209）一起处理作为重合数据的样本数据以确定选自片层厚度、基重和含湿量的片材样本（130）的至少一个性质并且通常是多个性质。

公开(公告)号：CN103189722A

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：CN201180051124.7

申请日：2011-08-19

Applicant: 霍尼韦尔阿斯卡公司

Inventor： P.穆萨维 ,  S.多奇 ,  F.M.黑兰 ,  S.萨瓦德 ,  D.耶斯 ,  S.J.希思

IPC: G01J3/42 ,  G01J3/28

CPC classification number: G01J3/42 ,  D21F7/06 ,  D21G9/0009 ,  G01B11/0625 ,  G01J3/28 ,  G01J3/2889 ,  G01N21/3559 ,  G01N21/3586 ,  G01N21/86 ,  G01N2021/8663

Abstract: 一种用于结合到时域光谱学系统中的装置，其创建连续参考，由此可以追踪和校正样本脉冲的相位和幅值，采用射束分裂器来生成样本和辐射脉冲。检测器被放置以用于接收与样本不相互作用的参考辐射脉冲。相同的检测器还被放置以用于接收从样本出现的样本辐射脉冲。该装置可以通过在太赫时域光谱仪的发射器和检测器之间进行配置来容易地实现。参考脉冲被用来追踪样本脉冲的时间和幅值中的改变。因为参考脉冲中的任何改变将最可能表现在样本脉冲中，所以参考脉冲被监测并被用来校正样本脉冲，并由此减少抖动的影响。

公开(公告)号：CN103189722B

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201180051124.7

申请日：2011-08-19

Applicant: 霍尼韦尔阿斯卡公司

Inventor： P.穆萨维 ,  S.多奇 ,  F.M.黑兰 ,  S.萨瓦德 ,  D.耶斯 ,  S.J.希思

IPC: G01J3/42 ,  G01J3/28

CPC classification number: G01J3/42 ,  D21F7/06 ,  D21G9/0009 ,  G01B11/0625 ,  G01J3/28 ,  G01J3/2889 ,  G01N21/3559 ,  G01N21/3586 ,  G01N21/86 ,  G01N2021/8663

Abstract: 一种用于结合到时域光谱学系统中的装置，其创建连续参考，由此可以追踪和校正样本脉冲的相位和幅值，采用射束分裂器来生成样本和辐射脉冲。检测器被放置以用于接收与样本不相互作用的参考辐射脉冲。相同的检测器还被放置以用于接收从样本出现的样本辐射脉冲。该装置可以通过在太赫时域光谱仪的发射器和检测器之间进行配置来容易地实现。参考脉冲被用来追踪样本脉冲的时间和幅值中的改变。因为参考脉冲中的任何改变将最可能表现在样本脉冲中，所以参考脉冲被监测并被用来校正样本脉冲，并由此减少抖动的影响。

公开(公告)号：CN102171549A

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：CN200980138678.3

申请日：2009-07-31

Applicant: 霍尼韦尔阿斯卡公司

Inventor： F.M.哈兰 ,  P.穆萨维 ,  D.耶斯 ,  S.多奇

IPC: G01N21/25 ,  G01B11/00

CPC classification number: D21F7/06 ,  D21F7/003 ,  D21G9/0009 ,  G01N21/3563 ,  G01N21/3586 ,  G01N21/86

Abstract: 一种用于在由制造系统（700）生产时的片材的性质的非接触表征的现场的基于时域频谱（TDS）的方法（200）。提供时域频谱系统（100）和用于系统（100）的校准数据。校准数据包括作为片材的含湿量的函数的、通过片材透射的功率或者从片材反射的功率的数据。将来自透射机（111）的THz或近THz辐射的至少一个脉冲引导至正由制造系统（700）处理的片材样本（130）上的样本位置处。由检测器（110）同步检测与来自样本位置的至少一个透射脉冲或反射脉冲相关联的透射辐射或反射辐射以获得样本数据。连同校准数据（207、208、209）一起处理作为重合数据的样本数据以确定选自片层厚度、基重和含湿量的片材样本（130）的至少一个性质并且通常是多个性质。