一种静电喷射阵列系统的优化控制方法

    公开(公告)号:CN102211066B

    公开(公告)日:2013-06-19

    申请号:CN201110054077.3

    申请日:2011-03-08

    Applicant: 顾文华

    Inventor: 顾文华

    Abstract: 一种静电喷射阵列系统的优化控制方法,属于静电喷射技术领域。包含有两个或两个以上静电喷射单元,特征在于:每个静电喷射单元包括一个独立的或与其他静电喷射单元共用的电荷产生或注入开关(6),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的液体流量控制装置或液体输送开关(7);该静电喷射阵列系统还包括一个与电荷产生或注入开关(6)、液体流量控制装置或液体输送开关(7)相连的自动控制装置(4),该自动控制装置(4)通过以下方式之一或几种方式的组合实现开关模式即每个喷头的喷射的开关状态、时间和周期:控制电荷的产生或注入通路,或液体的流量,或液体输送通断来实现喷头。本发明具有实用性、喷射更均匀、能够在工业化生产上大规模使用的特点。

    自动化控制多射流静电喷射系统及其控制方法

    公开(公告)号:CN102284390A

    公开(公告)日:2011-12-21

    申请号:CN201110225744.X

    申请日:2011-08-08

    Applicant: 顾文华

    Inventor: 顾文华

    Abstract: 一种自动化控制多射流静电喷射系统及其控制方法,属于静电喷射技术领域。特征在于:静电喷射系统中除喷头(1)、电荷产生和注入装置(2)、液体储存和输送装置(3)、喷射基底(5)、电荷产生或注入开关(6)、液体流量控制装置或液体输送开关(7)等装置之外,还包括一个自动反馈控制装置(4),该自动反馈控制装置通过检测静电喷射电流的变化来确定对应的静电喷射状态(该喷射状态可以包括特定的喷射电流数值、射流数目、射流角度、射流空间分布,等等),并通过调整电荷注入、液体流量、电场分布、喷射介质特性等方式进行反馈控制,从而使多射流静电喷射稳定在某个预先设定的喷射状态。本发明可用于工业或实验用的多射流静电喷射系统的自动化控制,具有方便实用、精确可靠的特点。

    一种工业生产中含有氮氧化物废气的选择性排放设备

    公开(公告)号:CN112305027A

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN202011090528.4

    申请日:2020-10-13

    Applicant: 顾文华

    Inventor: 顾文华

    Abstract: 本发明公开了一种工业生产中含有氮氧化物废气的选择性排放设备,包括处理设备,所述处理设备上设有进气管道和出气管道,所述出气管道内固定连接有网格篮,所述网格篮靠近处理设备设置,所述网格篮内设有工作层,所述工作层由三维褶皱石墨烯纳米片材料制成,所述出气管道的一侧壁上设有回收孔,所述回收孔远离处理设备设置,所述出气管道的外壁上固定连接有回收管,所述回收管正对回收孔设置。本发明中可以对将处理后仍旧残留有一定量氮氧化物的废气选择性的通入到处理设备中进行再处理,避免了含有过量氮氧化物的废气直接排放到空气中造成污染,保护了环境。

    在线自校准的浊度仪系统及浊度检测方法

    公开(公告)号:CN103323427A

    公开(公告)日:2013-09-25

    申请号:CN201310205457.1

    申请日:2013-05-27

    Applicant: 顾文华 左凌

    Inventor: 顾文华 左凌

    Abstract: 本发明涉及一种在线自校准的浊度仪系统及浊度检测方法,属液体浊度测量领域。该系统由光源(1)、测量用光探测器(2)、校准用光探测器(3)、反射透射部件(4)、待测液体(5)等组成;上述部件的位置满足以下关系:光源(1)发出的光线通过反射透射部件(4)后,部分沿原光线方向透射过去,进入待测浊度的液体(5),被散射后进入测量用光探测器(2);光源(1)发出的光通过反射透射部件(4)后,部分被反射透射部件(4)反射,反射光线进入校准用光探测器(3)。利用本发明可以解决传统浊度仪在使用过程中需要定期或不定期地对光源进行离线人工校准的问题。

    一种静电喷射阵列系统及其优化方法

    公开(公告)号:CN102211066A

    公开(公告)日:2011-10-12

    申请号:CN201110054077.3

    申请日:2011-03-08

    Applicant: 顾文华

    Inventor: 顾文华

    Abstract: 一种静电喷射阵列系统及设计和优化方法,属于静电喷射技术领域。包含有两个或两个以上静电喷射单元,特征在于:每个静电喷射单元包括一个独立的或与其他静电喷射单元共用的电荷产生或注入开关(6),一个独立的或与其他静电喷射单元共用的液体流量控制装置或液体输送开关(7);该静电喷射阵列系统还包括一个与电荷产生或注入开关(6)、液体流量控制装置或液体输送开关(7)相连的自动控制装置(4),该自动控制装置(4)通过控制电荷的产生或注入通路,或液体的流量,或液体输送通断来实现喷头开关模式即每个喷头的喷射的开关状态、时间和周期。本发明具有实用性、喷射更均匀、能够在工业化生产上大规模使用的特点。

    一种工业废水中的汞成分循环处理回收装置

    公开(公告)号:CN112374569A

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN202011137815.6

    申请日:2020-10-22

    Applicant: 顾文华

    Inventor: 顾文华

    Abstract: 本发明公开了一种工业废水中的汞成分循环处理回收装置,包括设置在地面上的废水渠,所述废水渠的两个相对内壁上分别固定连接有支撑块,两个所述支撑块相互靠近的一端共同固定连接有净化管,所述净化管的一端外壁上固定连接有进料管,所述进料管与净化管呈连通设置,所述进料管远离净化管的一端固定连接有动力管,所述动力管与净化管呈连通设置,所述动力管上设有动力装置。本发明中可以循环长久的对源源不断的工业废水进行汞处理工作,极大的提高了用户的处理效率,同时还可以对废水中的汞进行单独提取,极大的避免了汞的浪费,降低了用户的生产成本。

    二段电场结构静电喷射系统及阵列与使用方法

    公开(公告)号:CN103464319A

    公开(公告)日:2013-12-25

    申请号:CN201310399452.7

    申请日:2013-09-05

    Applicant: 顾文华

    Inventor: 顾文华

    Abstract: 本发明提出了一种二段电场结构静电喷射系统及阵列与使用方法,属于静电喷射技术领域。该系统主要包括接入第一电位的喷头(1)、接入第二电位的控制电极(2)和接地或接入第三电位的喷射基底(3),其中控制电极(2)与喷头(1)共同组成静电液滴产生装置;控制电极(2)与喷射基底(3)共同组成静电液滴收集装置。本发明通过引进控制电极分开了静电液滴的产生装置和收集装置,并把传统的单段电场隔断成两段电场,使用第一段电场产生静电液滴,使用第二段电场来控制静电液滴的运动和空间分布,增加了安全性和灵活性,且节省空间,提高效率,尤其适宜于在阵列化和微型化系统中使用。

    二段电场结构静电喷射系统及阵列与使用方法

    公开(公告)号:CN103464319B

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201310399452.7

    申请日:2013-09-05

    Applicant: 顾文华

    Inventor: 顾文华

    Abstract: 本发明提出了一种二段电场结构静电喷射系统及阵列与使用方法,属于静电喷射技术领域。该系统主要包括接入第一电位的喷头(1)、接入第二电位的控制电极(2)和接地或接入第三电位的喷射基底(3),其中控制电极(2)与喷头(1)共同组成静电液滴产生装置;控制电极(2)与喷射基底(3)共同组成静电液滴收集装置。本发明通过引进控制电极分开了静电液滴的产生装置和收集装置,并把传统的单段电场隔断成两段电场,使用第一段电场产生静电液滴,使用第二段电场来控制静电液滴的运动和空间分布,增加了安全性和灵活性,且节省空间,提高效率,尤其适宜于在阵列化和微型化系统中使用。

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