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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020070006991A
公开(公告)日：2007-01-12
申请号：KR1020060063916
申请日：2006-07-07
Applicant: 강방권
Inventor： 강방권
CPC classification number: C23C16/50 , B05D1/62 , B05D5/083 , B05D2201/04 , B05D2202/00 , B05D2203/35 , C23C16/22 , C23C16/26
Abstract: A surface coating method for hydrophobic and super hydrophobic treatment by using atmospheric pressure plasma is provided to reform the surface of an object by controlling the treatment speed and treatment times and to regulate the deposition speed of poly-fluorocarbon by selecting one of scanning, roll-to-roll, and reel-to-reel transportation systems according to the kind of the object. The surface coating method for hydrophobic and super hydrophobic treatment by using atmospheric pressure plasma comprises the steps of: generating first atmospheric pressure glow plasma by supplying the reactive gas including hydrogen gas, fluorocarbon gas, and inert gas to a discharge space(406) formed between first and second electrodes(402,403) connected to an RF(Radio Frequency) power source(400) of an atmospheric pressure plasma generator and making an object(420) approach the first electrode at the lower part of the flow of the reactive gas passing through the discharge space to form a fluorocarbon coating layer on the surface of the object by generating second atmospheric pressure glow plasma by transiting the plasma generated from the discharge space in a space between the first electrode and the object.
Abstract translation: 提供了一种通过使用大气压等离子体进行疏水和超疏水处理的表面涂覆方法，通过控制处理速度和处理时间来改变物体的表面，并通过选择扫描，滚压等方法来调节多氟碳化物的沉积速度， 根据物体的种类对卷轴和卷对卷运输系统。 通过使用大气压等离子体进行疏水和超疏水处理的表面涂覆方法包括以下步骤：通过将包括氢气，氟碳化合物气体和惰性气体的反应气体供应到形成在第一气压等离子体之间的放电空间（406） 连接到大气压等离子体发生器的RF（射频）电源（400）的第一和第二电极（402,403），并且使物体（420）接近穿过反应气体的流动的下部的第一电极 所述放电空间通过在所述第一电极和所述物体之间的空间中转移从所述放电空间产生的等离子体而产生第二大气压发光等离子体，在所述物体的表面上形成氟碳涂层。
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公开(公告)号：KR101591863B1
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：KR1020150070836
申请日：2015-05-21
Applicant: 강방권
Inventor： 강방권
Abstract: 본발명은대기압플라즈마처리공정을이용한저온폴리실리콘기판의표면평탄화방법에관한것으로서, 본발명에따른대기압플라즈마처리공정을이용한저온폴리실리콘기판의표면평탄화방법은, 저온폴리실리콘기판의표면평탄화방법에있어서, 아르곤(Ar) 및헬륨(He) 중어느하나와산소(O₂)를플라즈마반응가스로사용하는대기압플라즈마발생장치를이용하여플라즈마를발생시켜이송시스템에의해이송되는상기저온폴리실리콘기판의표면에산화막을형성하는단계; 및상기이송시스템을이용하여연속공정으로이송되며산화처리된상기저온폴리실리콘기판의표면에헬륨(He)과사불화탄소(CF₄) 및수소(H₂)로이루어진혼합가스를플라즈마반응가스로사용하는대기압플라즈마발생장치를이용하여플라즈마를발생시켜아모퍼스실리콘(A-si)이남아있는지점의산화막이상대적으로에칭율이높도록선택적으로에칭하는단계;를포함한다. 따라서, 본발명은, 대기압플라즈마처리방식을이용하여저온폴리실리콘기판의표면에산화처리공정을수행한다음선택적에칭공정을연속하여수행함으로써저온폴리실리콘기판의표면을평탄화시키고전기전도도를향상시킬수 있는대기압플라즈마처리공정을이용한저온폴리실리콘기판의표면평탄화방법을제공하는효과가있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用大气等离子体处理对低温多晶硅基板的表面进行平面化的方法，包括以下步骤：在由等离子体转移系统转印的低温多晶硅基板的表面上形成氧化膜 通过使用使用氩（Ar）和氦（He）和氧（O 2）中的任一种作为等离子体反应气体的大气等离子体产生装置产生的; 并且通过使用使用氦（He），四氟甲烷（CF_4）和氢（H_2）的混合物的大气等离子体产生装置产生的等离子体的连续方法选择性地蚀刻通过使用转印系统转印的氧化的低温多晶硅基板作为 使得留下非晶硅（A-Si）的点的氧化膜具有较高的蚀刻速率的等离子体反应气体。 根据本发明，由于使用大气等离子体处理在低温多晶硅基板的表面上进行氧化，并且依次进行选择性蚀刻，所以可以使低温多晶硅基板的表面平坦化，并且导电性可以 加强。
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公开(公告)号：KR100872682B1
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：KR1020080010285
申请日：2008-01-31
Applicant: 강방권
Inventor： 강방권
CPC classification number: H05H1/2406 , H05H2001/2418
Abstract: 균일한 상압 플라즈마 발생장치가 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 상압 플라즈마 발생장치는 제 1 전극, 제 2 전극, 및 가스공급부재를 포함한다. 제 1 전극은 피처리물에 대향하도록 배치되며, 전원이 인가되는 전원 플레이트를 포함한다. 제 2 전극은 상기 제 1 전극의 길이방향을 따라, 상기 제 1 전극의 상기 피처리물에 대향하는 면에 이격되어 배치되어 방전공간을 형성한다. 가스공급부재는 상기 방전공간으로 가스를 공급하는 가스공급통로가 형성되어 있으며, 상기 제 1 전극 및 상기 제 2 전극을 지지한다. 본 발명에 따른 상압 플라즈마 발생장치는 안정된 전압을 공급함으로써 상압에서 균일하고 안정되게 플라즈마를 발생할 수 있는 장치를 제공할 수 있는 장점이 있다.
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公开(公告)号：KR1020080072558A
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：KR1020080010285
申请日：2008-01-31
Applicant: 강방권
Inventor： 강방권
CPC classification number: H05H1/2406 , H05H2001/2418
Abstract: An apparatus for uniformly generating atmospheric pressure plasma is provided to evenly and stably generate plasma at a normal pressure and stably supply gas into a discharge space. An apparatus(200) for uniformly generating atmospheric pressure plasma includes a first electrode, a second electrode, and a gas supply member(210). The first electrode is disposed so as to be opposite to an object to be processed and has a power plate applied with power. The second electrode forms a discharge space by being spaced apart from a surface of the first electrode which is opposite to the object to be processed. The gas supply member has a gas supply passage to supply gas to the discharge space and supports the first and second electrodes.
Abstract translation: 提供均匀产生大气压等离子体的装置，以均压稳定地产生常压等离子体并稳定地将气体供应到放电空间。 用于均匀生成大气压等离子体的装置（200）包括第一电极，第二电极和气体供给构件（210）。 第一电极设置成与被处理物体相对，并具有施加电力的电源板。 第二电极通过与第一电极的与待处理物体相反的表面间隔开来形成放电空间。 气体供给构件具有供给到排出空间的气体供给通道，并支承第一和第二电极。
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公开(公告)号：KR100775789B1
公开(公告)日：2007-11-13
申请号：KR1020060063916
申请日：2006-07-07
Applicant: 강방권
Inventor： 강방권
CPC classification number: C23C16/50 , B05D1/62 , B05D5/083 , B05D2201/04 , B05D2202/00 , B05D2203/35 , C23C16/22 , C23C16/26
Abstract: 본 발명은 상압 플라즈마를 이용하여 탄화불소 또는 탄화수소를 대상물체의 표면에 코팅하는 방법에 관한 것으로, 보다상세하게는 대상물체의 표면이 소수성 또는 초소수성을 갖게 하기 위하여 상압하에서 플라즈마를 발생하여 탄화수소 또는 탄화불소를 대상물체의 표면에 코팅하는 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 소수성 또는 초소수성을 가지도록 대상물체의 표면을 코팅 방법은 수소 가스와 탄화불소 가스와 비활성 가스를 포함하는 반응가스를 상압 플라즈마 발생장치의 RF 전원이 연결된 제1전극과 제2전극 사이에 형성된 방전공간에 공급하여 제1 상압 글로우 플라즈마를 생성하는 단계와, 상기 제1전극과 대상물체 사이의 공간에서 상기 방전공간에서 형성된 플라즈마가 전이되어 제2 상압 글로우 플라즈마가 생성되어 대상물체의 표면에 탄화불소 코팅층이 형성되도록, 상기 방전공간을 통과한 반응가스의 흐름의 하류에서 상기 제1전극에 대상물체를 근접시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상압 플라즈마, 소수성, 초소수성, 탄화불소, 탄화수소
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