반도체 소자 및 그 제조방법
    1.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2018194293A1

    公开(公告)日:2018-10-25

    申请号:PCT/KR2018/003852

    申请日:2018-04-02

    Inventor: 강인만 윤영준

    CPC classification number: H01L27/108 H01L29/10 H01L29/66 H01L29/78

    Abstract: 반도체 소자 및 그 제조방법에 개시된다. 개시된 반도체 소자는, 벌크 실리콘 기판, 벌크 실리콘 기판에 형성되고, 소정의 높이와 폭 및 소정의 길이를 갖는 담장 형태로 이루어지는 제1 핀 영역 및 제2 핀 영역을 포함하는 담장형 바디, 전기적 절연 물질로 이루어지며, 벌크 실리콘 기판의 표면 및 제1 핀 영역의 높이까지 형성되는 절연층, 제2 핀 영역의 길이 방향을 기준으로 제2 핀 영역의 상부 중앙부에 형성되는 정공저장영역, 제2 핀 영역과 정공저장영역의 측벽 및 정공저장영역의 상부에 형성되는 게이트 절연층, 게이트 절연층의 상부에 형성되는 게이트 및 제2 핀 영역 중 게이트와 대응되는 위치에 형성되는 바디 영역 및 바디 영역의 양측 영역에 각각 형성되는 소스/드레인 영역을 포함한다.

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