유전체 조성물 및 이로 형성되는 유전체 박막층을 구비하는스위칭 소자
    1.
    发明公开
    유전체 조성물 및 이로 형성되는 유전체 박막층을 구비하는스위칭 소자 失效
    具有低加工温度的电容器的高K和低损耗电介质薄膜材料

    公开(公告)号:KR1020090047246A

    公开(公告)日:2009-05-12

    申请号:KR1020070113306

    申请日:2007-11-07

    CPC classification number: H01B3/12 H01H13/704 H01L28/75

    Abstract: 본 발명에 따른 스위칭 소자는 화학식1 Bi
    5 Nb
    3 O
    15 의 유전체 조성물로 형성되는 유전체 박막층을 포함한다.
    따라서 본 발명에 따른 유전체 조성물은 화학식 1의 Bi
    5 Nb
    3 O
    15 조성을 갖으며, 400℃ 이하의 저온 공정에서 형성할 수 있는 유전 박막 재료를 확보할 수 있다.
    또한, 본 발명에 따른 유전체 조성물 및 이로 형성되는 유전체 박막층을 구비하는 스위칭 소자는 고유전율, 저유전손실 및 저온에서 용이한 증착공정으로 성능이 향상될 수 있는 효과가 있다.

    유전체 조성물 및 이로 형성되는 유전체 박막층을 구비하는스위칭 소자
    2.
    发明授权
    유전체 조성물 및 이로 형성되는 유전체 박막층을 구비하는스위칭 소자 失效
    具有低加工温度的电容器的高k和低损耗介电薄膜材料

    公开(公告)号:KR100902870B1

    公开(公告)日:2009-06-16

    申请号:KR1020070113306

    申请日:2007-11-07

    Abstract: 본 발명에 따른 스위칭 소자는 화학식1 Bi
    5 Nb
    3 O
    15 의 유전체 조성물로 형성되는 유전체 박막층을 포함한다.
    따라서 본 발명에 따른 유전체 조성물은 화학식 1의 Bi
    5 Nb
    3 O
    15 조성을 갖으며, 400℃ 이하의 저온 공정에서 형성할 수 있는 유전 박막 재료를 확보할 수 있다.
    또한, 본 발명에 따른 유전체 조성물 및 이로 형성되는 유전체 박막층을 구비하는 스위칭 소자는 고유전율, 저유전손실 및 저온에서 용이한 증착공정으로 성능이 향상될 수 있는 효과가 있다.

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