公开(公告)号：KR1020160030125A

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：KR1020157036920

申请日：2014-02-03

Applicant: 고쿠리츠다이가쿠호우진 도쿄다이가쿠

Inventor： 모토야마히로토 ,  미무라히데카즈

IPC: G21K1/06 ,  G02B5/10 ,  G02B19/00

CPC classification number: G21K1/067 ,  G02B5/10 ,  G02B19/0023 ,  G21K2201/064

Abstract: 발산각이매우작은 X선을회전체미러의전체면에조사하면서, 전체플럭스를집광하는것이가능한새로운 X선집광시스템의광학설계방법을제공한다. X선집광시스템의집광점이되는초점(F)을하류측에구비하고, 상류측의초점(F1)을광축(OA)으로부터벗어난위치에설정한타원또는타원과쌍곡선을조합시킨일부로이루어지는 1차원프로필을, 광축(OA)을중심으로하여 1회전시켜서형성되는반사면을구비한회전체미러(3)의형상을결정하는스텝과, 상류측의초점(F1)의궤적이만드는집광링(R)을통과하고, 집광점으로부터 X선원(O)으로역광선추적을하여광로길이가일정한구속조건하에서, X선원(O)으로부터조사된 X선빔(5)을반사하여넓혀서집광링(R)에집광하는기능을갖춘링집광미러(4)의반사면의형상을, 역광선추적의광선의굴곡점의좌표(P)의집합으로서결정하는스텝으로이루어진다.

公开(公告)号：KR102133912B1

公开(公告)日：2020-07-14

申请号：KR1020157036920

申请日：2014-02-03

Applicant: 고쿠리츠다이가쿠호우진 도쿄다이가쿠

Inventor： 모토야마히로토 ,  미무라히데카즈

IPC: G21K1/06 ,  G02B5/10 ,  G02B19/00