자기조립단분자막을 이용한 패턴 형성 방법
    1.
    发明授权
    자기조립단분자막을 이용한 패턴 형성 방법 失效
    形成图案的方法

    公开(公告)号:KR100878028B1

    公开(公告)日:2009-01-13

    申请号:KR1020070027169

    申请日:2007-03-20

    Abstract: 본 발명은 포토 리소그래피 공정을 사용하지 않고, 정밀한 패턴을 형성할 수 있는 자기조립단분자막을 이용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다.
    본 발명에 따른 자기조립단분자막을 이용한 패턴 형성방법은, 기판 상에 소수성을 가지는 소수성 자기조립단분자막 패턴을 형성하는 단계; 상기 기판 중 상기 소수성 자기조립단분자막 패턴이 형성된 영역 이외의 영역에 친수성을 가지는 친수성 자기조립단분자막 패턴을 형성하는 단계; 상기 소수성 자기조립단분자막 패턴 및 친수성 자기조립단분자막 패턴이 형성된 기판 상에 촉매제막을 형성하는 단계; 상기 자기조립단분자막 상에 전도성 폴리머막을 형성하는 단계를 포함한다.

    자기조립단분자막을 이용한 패턴 형성 방법
    2.
    发明公开
    자기조립단분자막을 이용한 패턴 형성 방법 失效
    形成图案的方法

    公开(公告)号:KR1020080085514A

    公开(公告)日:2008-09-24

    申请号:KR1020070027169

    申请日:2007-03-20

    CPC classification number: C08J7/065 C08J7/18 G03F7/0017

    Abstract: A method for forming a pattern using a self-assembly monolayer is provided to pattern a conductive polymer having high conductivity by using a soft lithography manner instead of a photolithography process and a photoresist. A non-aqueous self-assembly monolayer(30) is formed on a substrate(10). An aqueous self-assembly monolayer(50) is formed on a region of the substrate except for the region on which the non-aqueous self-assembly monolayer is formed. A catalyzer layer is formed on the substrate on which the non-aqueous self-assembly monolayer and the aqueous self-assembly monolayer are formed. A conductive polymer layer(70) is formed on the non-aqueous and aqueous self-assembly monolayer. An insulating layer is formed between the substrate and the non-aqueous self-assembly monolayer. The insulating layer is an oxide layer. The non-aqueous self-assembly monolayer is made of an OTS(Octadecyltrichlorosilane)-based self-assembly monolayer. The aqueous self-assembly monolayer is made of a self-assembly monolayer having an amine group.

    Abstract translation: 提供了使用自组装单层形成图案的方法,以通过使用软光刻方式代替光刻工艺和光致抗蚀剂来图案化具有高导电性的导电聚合物。 在基材(10)上形成非水自组装单层(30)。 在除了形成非水自组装单层的区域之外,在基材的区域上形成水性自组装单层(50)。 在其上形成非水自组装单层和水性自组装单层的基板上形成催化剂层。 在非水和含水自组装单层上形成导电聚合物层(70)。 在基底和非水自组装单层之间形成绝缘层。 绝缘层是氧化物层。 非水性自组装单层由基于OTS(十八烷基三氯硅烷)的自组装单层制成。 水性自组装单层由具有胺基的自组装单层制成。

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