公开(公告)号：KR100971095B1

公开(公告)日：2010-07-20

申请号：KR1020030042402

申请日：2003-06-27

Applicant: 오사까 가스 가부시키가이샤 ,  나가세케무텍쿠스가부시키가이샤

Inventor： 가와사키신이치 ,  무라세히로아키 ,  야마다미쓰아키 ,  모리타요시유키 ,  호소미데쓰야 ,  다마코시히데아키

IPC: C08G59/02

Abstract: 본 발명에 의해 열 경화성 또는 방사선 경화성의 기능성 에폭시 수지로서 이의 경화물이 경도가 높고, 내열성 및 전기 특성 수준이 높고, 경화시 수축율이 낮으며 패터닝성이 우수한 수지가 제공된다.
본 수지는 플루오렌 골격을 갖는 특정한 에폭시 수지, 에폭시 아크릴레이트 수지 및 플루오렌 함유 알칼리 가용형 방사선 중합성 불포화 수지이다.
에폭시 수지, 경도, 내열성, 전기 특성, 수축율, 패터닝성, 성형체.

公开(公告)号：KR1020040004110A

公开(公告)日：2004-01-13

申请号：KR1020030044187

申请日：2003-07-01

Applicant: 나가세케무텍쿠스가부시키가이샤

Inventor： 후지이사토루 ,  모리타요시유키 ,  기타노게이 ,  호소미데쓰야 ,  아오키노부아키

IPC: C08G63/00

Abstract: PURPOSE: To provide an alkali-soluble resin constituting the main component of a radiation-sensitive resin composition which can form a resist film excellent in heat resistance, sensitivity and developing properties as well as in a residual film ratio and also excellent in chemical resistance, adhesion to a substrate and transparency in the visible light region. CONSTITUTION: The alkali-soluble resin is obtained by reacting at least one polybasic carboxylic acid or an anhydride thereof with an epoxy ester compound formed from an epoxy compound having a specific bisphenol fluorene structure and an alicylic or aromatic monobasic carboxylic acid.

Abstract translation: 目的：为了提供构成耐辐射敏感性树脂组合物的主要成分的碱溶性树脂，其能够形成耐热性，灵敏度和显影性以及残留膜比优异且耐化学性优异的抗蚀剂膜， 对基材的粘附和可见光区域的透明性。 构成：碱溶性树脂通过使至少一种多元羧酸或其酸酐与由具有特定双酚芴结构的环氧化合物和丙烯酸或芳族一元羧酸形成的环氧酯化合物反应而获得。

公开(公告)号：KR100968731B1

公开(公告)日：2010-07-08

申请号：KR1020030044187

申请日：2003-07-01

Applicant: 나가세케무텍쿠스가부시키가이샤

Inventor： 후지이사토루 ,  모리타요시유키 ,  기타노게이 ,  호소미데쓰야 ,  아오키노부아키

IPC: C08G63/00

Abstract: 본 발명은 특정한 비스페놀플루오렌 구조를 갖는 에폭시 화합물과 지환식 또는 방향족 단염기성 카복실산으로부터 형성된 에폭시에스테르 화합물에 1종 이상의 다염기성 카복실산 또는 이의 무수물을 반응시킴으로써 수득되는 알칼리 가용성 수지에 관한 것이며, 당해 알칼리 가용성 수지는 내열성, 감도, 현상성이 우수하며 막 잔류율이 우수한 동시에 내약품성, 기판과의 밀착성 및 가시광선 영역에서의 투명성이 우수한 내식막을 형성할 수 있는 감방사선성 수지 조성물의 주성분이 된다.
에폭시 화합물, 지환식 또는 방향족 단염기성 카복실산, 에폭시에스테르 화합물, 감방사선성 수지 조성물, 알칼리 가용성

公开(公告)号：KR1020060043055A

公开(公告)日：2006-05-15

申请号：KR1020050014427

申请日：2005-02-22

Applicant: 오사까 가스 가부시키가이샤 ,  나가세케무텍쿠스가부시키가이샤

Inventor： 무라세히로아키 ,  사카모토히로키 ,  야마다미쓰아키 ,  모리타요시유키 ,  기타노게이 ,  호소미데쓰야

IPC: C07C13/567 ,  G03F7/022

Abstract: 본 발명에 의해 퀴논디아지드설폰산 에스테르 그룹을 갖는 에스테르형 플루오렌 화합물, 당해 화합물을 함유하는 감광제 및 당해 감광제를 함유하는 감방사선성 수지 조성물이 제공된다. 이러한 조성물은 반도체 집적 회로 또는 LCD용 TFT 회로 제조용의 내식막 재료 또는 층간 절연막, 보호막 등의 영구막 형성재료로서 유용하다.
에스테르형 플루오렌 화합물, 감광제, 알칼리 가용성 수지, 가교제, 감방사선성 수지 조성물, 내열성, 투명성, 내약품성, 저장안정성.

公开(公告)号：KR1020050033445A

公开(公告)日：2005-04-12

申请号：KR1020040078343

申请日：2004-10-01

Applicant: 나가세케무텍쿠스가부시키가이샤

Inventor： 모리타요시유키 ,  기타노게이 ,  호소미데쓰야

IPC: G03F7/022

Abstract: An alkali-soluble resin is provided, which can be advantageously used in a radiosensitive resin composition useful for an anticorrosive layer, an insulating layer or protecting layer of LCD and the like, owing to its improved sensitivity, insoluble fraction, developing properties, resolution, heat resistance, heat-induced discoloration properties, chemical resistance, transparency within the range of visible light, sealing property to various substrates, and stability during storage. The alkali-soluble resin is produced by reacting (a1) an epoxy ester compound represented by formula 1 and (a2) a polyhydric alcohol, and (a3) a polybasic carboxylic acid or anhydride thereof, wherein R is independently a hydrogen, a linear or branched alkyl group having C1-5, a phenyl group or a halogen atom, and R1 is independently parts derived from a monobasic carboxylic acid, wherein the molar ratio of hydroxyl groups of (a1) to hydroxyl groups of (a2) is 99/1-50/50.

Abstract translation: 提供了一种碱溶性树脂，其可以有利地用于可用于防腐层，绝缘层或LCD等的保护层的放射敏感性树脂组合物中，这是由于其提高的敏感性，不溶性级分，显影性能，分辨率， 耐热性，热诱变色性，耐化学性，可见光范围内的透明性，各种基材的密封性，以及保存期间的稳定性。 通过使（a1）由式1表示的环氧酯化合物与（a2）多元醇反应制备碱溶性树脂，（a3）多元羧酸或其酸酐，其中R独立地为氢，直链或 具有C 1-5的支链烷基，苯基或卤素原子，R 1独立地来自一元羧酸，其中（a1）的羟基与（a2）的羟基的摩尔比为99/1 -50/50。

公开(公告)号：KR1020040002769A

公开(公告)日：2004-01-07

申请号：KR1020030042402

申请日：2003-06-27

Applicant: 오사까 가스 가부시키가이샤 ,  나가세케무텍쿠스가부시키가이샤

Inventor： 가와사키신이치 ,  무라세히로아키 ,  야마다미쓰아키 ,  모리타요시유키 ,  호소미데쓰야 ,  다마코시히데아키

IPC: C08G59/02

Abstract: PURPOSE: A fluorene-containing epoxy resin, its preparation method, an epoxy resin composition containing the epoxy resin, a fluorene-containing epoxy acrylate resin, its preparation method, a thermosetting composition and a radiation sensitive resin composition containing the epoxy acrylate resin, a fluorene-containing alkali-soluble radiation polymerizable unsaturated resin, its preparation method, a radiation sensitive resin composition containing the unsaturated resin, and a molded product obtained from the compositions are provided, to improve the hardness of a cured material, heat resistance, electric characteristics and patterning property and to reduce contraction rate in curing. CONSTITUTION: The fluorene-containing epoxy resin is represented by the formula 1, wherein R1's are independently H or CH3; n's are independently an integer of 0-10; and m's are independently an integer of 2-5. The fluorene-containing epoxy acrylate resin is represented by the formula 3, wherein R1 and R2 are independently H or CH3; n's are independently an integer of 0-10; and m's are independently an integer of 2-5. The fluorene-containing alkali-soluble radiation polymerizable unsaturated resin is prepared by reacting the fluorene-containing epoxy acrylate resin of the formula 3 with a polybasic carboxylic acid or its anhydride.

Abstract translation: 目的：含芴环氧树脂，其制备方法，含有环氧树脂的环氧树脂组合物，含芴环氧丙烯酸酯树脂，其制备方法，热固性组合物和含有环氧丙烯酸酯树脂的辐射敏感性树脂组合物， 含有芴的碱溶性辐射可聚合不饱和树脂，其制备方法，含有不饱和树脂的辐射敏感性树脂组合物和由该组合物获得的模塑产品，以提高固化材料的硬度，耐热性，电特性 和图案化性能并降低固化中的收缩率。 构成：含芴环氧树脂由式1表示，其中R 1独立地为H或CH 3; n独立为0-10的整数; 并且m的独立地为2-5的整数。 含芴环氧丙烯酸酯树脂由式3表示，其中R 1和R 2独立地为H或CH 3; n独立为0-10的整数; 并且m的独立地为2-5的整数。 通过使式3的含芴环氧丙烯酸酯树脂与多元羧酸或其酸酐反应来制备含芴的碱溶性辐射聚合性不饱和树脂。