公开(公告)号：KR101476263B1

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：KR1020140058184

申请日：2014-05-15

Applicant: 대한민국(관리부서: 행정안전부 국립과학수사연구원장)

Inventor： 유승진 ,  김명덕 ,  양자열 ,  이진훈 ,  최혜진 ,  박세연 ,  정진미 ,  유재훈 ,  정현 ,  김아란

IPC: A61B5/117 ,  C07F5/00 ,  G01N33/52

Abstract: 본 발명은 하기 화학식 A로 표시되는 유로피움(III) 착물의 층간 삽입이 가능한 매트릭스; 및 상기 매트릭스내에 층간 삽입된 하기 화학식 A로 표시되는 유로피움(III) 착물;을 포함하는 잠재지문 검출용 조성물 및 이를 이용하여 잠재지문을 검출하는 방법에 관한 것으로, 화학식 A내 L', L, X, n, m 및 W는 발명의 상세한 설명에 기재된 바와 같다.
[화학식 A]

Abstract translation: 本发明涉及用于潜在指纹检测的纳米杂交荧光组合物，其包括用于中间插入铕（III）络合物的基质，其表示下列化学式A; 和表示以下化学式A的铕（III）络合物，层间插入到基质中的方法，以及通过使用它们来检测潜在指纹的方法。 以下化学式A中的L'，L，X，n，m和W描述为本发明的详细描述。

公开(公告)号：KR101540716B1

公开(公告)日：2015-07-31

申请号：KR1020140157010

申请日：2014-11-12

Applicant: 대한민국(관리부서: 행정안전부 국립과학수사연구원장)

Inventor： 유승진 ,  김명덕 ,  양자열 ,  정진미 ,  박세연 ,  김남이 ,  김유나 ,  유재훈 ,  정현 ,  김아란

IPC: A61B5/117

CPC classification number: A61B5/117

Abstract: 본발명은소수성의매트릭스표면을가지며, 하기화학식 A로표시되는유로피움(III) 착물의층간삽입이가능한매트릭스; 및상기매트릭스내에층간삽입된하기화학식 A로표시되는유로피움(III) 착물;을포함하는잠재지문검출용조성물및 이의제조방법에관한것으로, 화학식 A내 L', L, X, n, m, p, q 및 W는발명의상세한설명에기재된바와같다. [화학식 A]

Abstract translation: 本发明涉及用于潜在指纹检测的组合物，该组合物具有疏水基质表面并进行表示为[Eu（III）L'LnXm] Wp（H 2 O）q的铕（III）络合物和铕 （III）络合物及其制造方法[Eu（III）L'LnXm] Wp（H2O）q表示。 在本发明的详细描述中描述了L'，L，X，n，m，p，q和W。