프리즘패턴을 갖는 광대역 반사형 편광판의 제조방법
    1.
    发明公开
    프리즘패턴을 갖는 광대역 반사형 편광판의 제조방법 失效
    棱镜图案宽带反射偏光片的制备方法

    公开(公告)号:KR1020070015633A

    公开(公告)日:2007-02-05

    申请号:KR1020070007620

    申请日:2007-01-24

    Abstract: 본 발명은 선택반사 파장영역이 서로 다른 콜레스테릭 액정필름들을 이용하여 가시광선을 커버(cover)하는 액정필름을 제조하고, 이 필름에 1/4λ 위상차필름을 부착하고 반대면에 프리즘패턴을 첨가하여 액정표시 소자의 휘도를 획기적으로 향상시킬 수 있는 반사형 편광막을 제조하는 방법에 관한 것으로, 선택반사 파장영역이 다른 2층 이상의 콜레스테릭 액정필름층이 단파장에서 장파장의 순서로 적층되며, 이 필름에 1/4λ 위상차필름을 부착하고 반대면에 프리즘패턴을 제조하여 일체형 필름을 제조함에 의해 액정표시 소자의 휘도를 극대화 되도록 한 것을 특징으로 한다.
    콜레스테릭 액정필름, 프리즘 패턴, 반사형편광막, 선택반사

    프리즘 패턴을 갖는 일체형 광대역 반사형 고휘도 편광판,그 제조방법 및 이를 구비하는 액정표시장치
    2.
    发明授权
    프리즘 패턴을 갖는 일체형 광대역 반사형 고휘도 편광판,그 제조방법 및 이를 구비하는 액정표시장치 失效
    PRISM-PATTERNED宽带反射型亮度增强极化器,其制造方法和具有其的液晶显示器

    公开(公告)号:KR100644013B1

    公开(公告)日:2006-11-10

    申请号:KR1020050033160

    申请日:2005-04-21

    Abstract: 본 발명은 프리즘 패턴을 갖는 일체형 광대역 반사형 고휘도 편광판, 그 제조방법 및 이를 구비하는 액정표시장치에 관한 것으로서, 본 발명의 일체형 광대역 반사형 고휘도 편광판의 제조방법은 (S1) 특정 구조의 경화성 네마틱 액정 화합물과 경화성 카이랄 화합물의 혼합비를 변화시켜 각각 서로 다른 선택반사 파장영역을 갖도록 형성한 다수의 콜레스테릭 액정필름들을 준비하는 단계; (S2) 상기 다수의 콜레스테릭 액정필름들을 적층하여 광대역 선택반사 파장영역을 갖는 적층 콜레스테릭 액정필름을 제조하는 단계; (S3) 상기 적층 콜레스테릭 액정필름의 일면에 1/4λ 위상차 필름을 적층하여 광대역 반사형 편광판을 제조하는 단계; (S4) 상기 광대역 반사형 편광판의 일면에 광경화성 수지액을 코팅하는 단계; 및 (S5) 상기 광경화성 수지액이 코팅된 면을 프리즘 패턴이 양각된 롤에 통과시키면서 광을 조사하여 프리즘 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명의 제조방법에 따라 제조한 일체형 광대역 반사형 고휘도 편광판은 편광판을 구성하는 콜레스테릭 액정필름들의 선택반사 파장영역의 폭이 넓으므로, 액정필름들을 수개만 적층하여도 가시광선영역이 모두 커버된다. 또한 편광판의 일면에 형성된 프리즘 패턴 코팅막은 편광판과 일체화되어 있으므로, 계면에서의 빛 손실을 방지할 수 있다. 더불어, 본 발명의 제조방법은 제조공정이 단축되고 불량률을 줄일 수 있어 경제적이다.

    프리즘 패턴을 갖는 일체형 광대역 반사형 고휘도 편광판,그 제조방법 및 이를 구비하는 액정표시장치
    3.
    发明公开
    프리즘 패턴을 갖는 일체형 광대역 반사형 고휘도 편광판,그 제조방법 및 이를 구비하는 액정표시장치 失效
    PRISM-PATTERNED宽带反射型亮度增强极化器,其制造方法和具有其的液晶显示器

    公开(公告)号:KR1020060110678A

    公开(公告)日:2006-10-25

    申请号:KR1020050033160

    申请日:2005-04-21

    Abstract: An integral type broadband-reflective high brightness polarizer having a prism pattern, a manufacturing method thereof, and an LCD having the same are provided to prevent a light loss at an interface by forming a prism pattern coating layer formed at one side of a polarizer as one body with the polarizer. A broadband reflective polarizer includes a lamination cholesteric liquid crystal film and a 1/4lambda phase difference film. The lamination cholesteric liquid crystal film has a broadband selective reflective wavelength region and is formed by laminating a plurality of cholesteric liquid crystal films with different selective reflective wavelength regions by varying a mixture ratio between a curable nematic liquid crystal compound expressed by a chemical formula 1 and a curable chiral compound expressed by a chemical formula 2. The 1/4lambda phase difference film is laminated on one face of the lamination cholesteric liquid crystal film. A integral type broadband-reflective high brightness polarizer consists of the broadband reflective polarizer and a prism pattern coating layer formed at one face of the broadband reflective polarizer.

    Abstract translation: 提供具有棱镜图案的整体式宽带反射型高亮度偏振片,其制造方法和具有该棱镜图案的制造方法和LCD,以通过形成在偏振片一侧形成的棱镜图案涂层来防止界面处的光损失 一个身体与偏光片。 宽带反射偏振器包括层叠胆甾醇型液晶膜和1 /4λ相位差膜。 叠层胆甾醇型液晶膜具有宽带选择反射波长区域,通过将由化学式1表示的可固化向列型液晶化合物与化学式1表示的混合比例与 由化学式2表示的可固化手性化合物。在叠层胆甾型液晶膜的一面上层叠1 /4λ相差膜。 一体式宽带反射型高亮度偏光片由宽带反射型偏振片和形成在宽带反射型偏振片一面的棱镜图案涂层构成。

    옥살레이트법에 의한 복합티탄산바륨계 파우더의 제조방법
    4.
    发明授权
    옥살레이트법에 의한 복합티탄산바륨계 파우더의 제조방법 有权
    通过草酸盐法制备具有选择性组合物的钛酸钡基粉末

    公开(公告)号:KR100555400B1

    公开(公告)日:2006-03-03

    申请号:KR1020030094658

    申请日:2003-12-22

    Abstract: 본 발명은 옥살레이트법에 의한 복합티탄산바륨계 파우더의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 염화바륨(BaCl
    2 ㆍ2H
    2 O)과 사염화티탄(TiCl
    4 )의 혼합수용액을 옥살산(H
    2 C
    2 O
    4 )수용액에 침전시켜 얻어진 바륨티타닐옥살레이트[BaTiO(C
    2 O
    4 )
    2 ㆍ4H
    2 O]와 특정의 금속함유 첨가제를 일정비로 혼합분쇄한 후 열처리하여, 종래에 비해 입도분포가 균일함과 동시에 파우더의 화학양론적 조성(Ba/M/Ti의 몰비)을 일정하게 유지시킬 수 있고, 내환원성이 우수한 복합티탄산바륨계 파우더를 간단하고 생산성이 높게 제조할 수 있어서 소형, 고용량용 X7R 적층세라믹콘덴서(MLCC), 정특성써미스터(PTC) 및 압전체 등의 제조에 광범위하게 활용될 수 있는 복합티탄산바륨계 파우더의 제조방법에 관한 것이다.
    바륨티타닐옥살레이트, 금속함유 첨가제, 복합티탄산바륨계 파우더

    티탄산바륨계 파우더의 제조방법
    5.
    发明公开
    티탄산바륨계 파우더의 제조방법 有权
    钛酸钡粉末的制备

    公开(公告)号:KR1020030015011A

    公开(公告)日:2003-02-20

    申请号:KR1020010049048

    申请日:2001-08-14

    Abstract: PURPOSE: A preparation method of barium titanate powder with good dielectric characteristics and high yield is provided by preparing powder by an oxalate method and wet milling powder mixed with N-contained additive, and thermal treating. CONSTITUTION: The preparation method of BaTiO3 powder comprises the steps of: (i) spraying a mixed solution of BaCl2 and TiCl4 over oxalic acid(H2C2O4) to form barium titanyl oxalate(BaTiO(C2O4)-4H2O, BTO) particles; (ii) aging for 0.5-2hrs and washing; (iii) wet milling BTO particles with 0.5-20mol%(based on barium titanyl oxalate) of N-contained additives to prevent acidification of the mixture, viscosity increase after milling, and decrease of dielectric characteristics, where M2+(Mg, Ca, Sr) or M4+(Zr, Hf, Sn) is optionally added to form Perovskite barium titanium compounds; (iv) thermal treating at 700-1200deg.C for BaTiO3 powder. The N-contained additive is selected from ammonia, amine such as mono(di, tri)-methyl amine or di(tri)-ethyl amine, and ammonium compound such as ammonium hydroxide, ammonium carbonate, ammonium acetate, etc.

    Abstract translation: 目的:通过草酸盐法制备粉末,与含氮添加剂混合的湿磨粉末和热处理,提供介电特性好,产率高的钛酸钡粉末的制备方法。 组成:BaTiO3粉末的制备方法包括以下步骤:(i)将草酸(H 2 C 2 O 4)上的BaCl 2和TiCl 4的混合溶液喷雾以形成草酸氧钛钡(BaTiO(C 2 O 4)-4H 2 O,BTO)颗粒; (ii)老化0.5-2小时并洗涤; (iii)用0.5-20mol%(基于草酸钡氧钛)的含N添加剂的湿磨BTO颗粒以防止混合物酸化,研磨后粘度增加,介电特性降低,其中M2 +(Mg,Ca,Sr )或M4 +(Zr,Hf,Sn),以形成钙钛矿钡钛化合物; (iv)对于BaTiO 3粉末,在700-1200℃热处理。 含N的添加剂选自氨,单(二,三) - 甲胺或二(三) - 乙胺等胺类,氢氧化铵,碳酸铵,乙酸铵等铵化合物。

    솔빈산의 제조방법
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1019980059280A

    公开(公告)日:1998-10-07

    申请号:KR1019960078617

    申请日:1996-12-31

    Inventor: 정재철 이원장

    Abstract: 본 발명은 솔빈산 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 솔빈산의 제조과정에서 촉매존재하에 크로톤알데히드와 케텐과의 반응으로 폴리에스터를 제조하고 이로부터 솔빈산을 제조하는 방법에 있어서, 상기 폴리에스터의 제조과정에서 산화알루미늄, 실리카겔, 제올라이트, 활성탄 등의 지지체에 니켈염을 도포시킨 신규한 촉매를 사용하므로써 경제적으로 유리하고 작업성이 우수하면서도 고수율로 솔빈산을 제조하는 방법에 관한 것이다.

    유전체재료 및 그를 이용한 디스플레이패널
    7.
    发明授权
    유전체재료 및 그를 이용한 디스플레이패널 失效
    电介质材料和使用相同的显示面板

    公开(公告)号:KR100578689B1

    公开(公告)日:2006-05-12

    申请号:KR1020040098233

    申请日:2004-11-26

    Abstract: 본 발명은 인체 및 환경에 유해한 Pb계 유리 대신 Bi를 주성분으로 하는 디스플레이용 투명 유전체 제조에 적합한 무연 저융점 유리를 제공하는 것이다. 본 발명의 유전층은 Bi
    2 O
    3 10 ~ 50 wt%, B
    2 O
    3 20 ~ 40 wt%, ZnO 5 ~ 20 wt%, BaO 5 ~ 20 wt%, SiO
    2 1 ~ 5 wt%, Al
    2 O
    3 1 ~ 5 wt%, SrO 0.01 ~ 1.0 wt%, CuO 0.01 ~ 1.0wt%의 중량%를 포함하는 AC-PDP용 투명유전체이다.
    투명 유전체, 디스플레이

    Abstract translation: 本发明是提供一种适合于用于显示作为主成分,而不是对人体和环境有害的Bi系的Pb玻璃制作的透明电介质的无铅低熔点玻璃。 本发明的介电层包括Bi

    졸-겔 반응에 의한 티탄산바륨 입자의 제조방법
    8.
    发明授权
    졸-겔 반응에 의한 티탄산바륨 입자의 제조방법 有权
    一种用溶胶 - 凝胶反应制备钛酸钡粉末的方法

    公开(公告)号:KR100555399B1

    公开(公告)日:2006-03-03

    申请号:KR1020030092997

    申请日:2003-12-18

    Abstract: 본 발명은 졸-겔 반응에 의한 티탄산바륨 입자의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 종래에 알콜에 용해된 티탄알콕사이드를 대신하여 질소 분위기 하에서 준비된 티탄알콕사이드를 교반기와 스타틱 믹서를 이용하여 수산화바륨 수용액과 졸-겔 반응하고, 이를 1차 건조한 후 세정하는 과정없이 하소, 분쇄·수세하는 일련의 단일공정으로, 티탄산바륨 입자의 바륨/티타늄 원소의 몰비 제어가 가능하고, 평균입자 크기가 0.1 ∼ 0.3 ㎛인 입도분포가 균일한 입자 크기를 가져, 다적층세라믹콘덴서(MLCC), 정특성써미스터(PCT) 및 압전체 등의 광범위한 분야에 사용 가능한 티탄산바륨 입자를 졸-겔 반응으로 제조하는 방법에 관한 것이다.
    졸-겔 반응, 티탄산바륨, 티탄알콕사이드, 수산화바륨

    졸-겔 반응에 의한 티탄산바륨 입자의 제조방법
    9.
    发明公开
    졸-겔 반응에 의한 티탄산바륨 입자의 제조방법 有权
    用于制备具有溶胶凝胶反应的钛酸钡粉末的方法

    公开(公告)号:KR1020050061697A

    公开(公告)日:2005-06-23

    申请号:KR1020030092997

    申请日:2003-12-18

    Abstract: 본 발명은 졸-겔 반응에 의한 티탄산바륨 입자의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 종래에 알콜에 용해된 티탄알콕사이드를 대신하여 질소 분위기 하에서 준비된 티탄알콕사이드를 교반기와 스타틱 믹서를 이용하여 수산화바륨 수용액과 졸-겔 반응하고, 이를 1차 건조한 후 세정하는 과정없이 하소, 분쇄·수세하는 일련의 단일공정으로, 티탄산바륨 입자의 바륨/티타늄 원소의 몰비 제어가 가능하고, 평균입자 크기가 0.1 ∼ 0.3 ㎛인 입도분포가 균일한 입자 크기를 가져, 다적층세라믹콘덴서(MLCC), 정특성써미스터(PCT) 및 압전체 등의 광범위한 분야에 사용 가능한 티탄산바륨 입자를 졸-겔 반응으로 제조하는 방법에 관한 것이다.

    티민의 제조방법
    10.
    发明授权
    티민의 제조방법 失效
    一种制备胸腺嘧啶的方法

    公开(公告)号:KR100330718B1

    公开(公告)日:2002-04-03

    申请号:KR1019990020006

    申请日:1999-06-01

    Abstract: 본발명은다음화학식 1로표시되는티민의제조방법에관한것으로서, 더욱상세하게는 2-포르밀프로피온산에스테르를원료로하여산(acid)과요소를반응시킨후에연속적으로고리화반응을수행하여티민을제조하되, 상기한고리화반응을 2급또는 3급의아민촉매와알칼리금속또는알칼리토금속계무기염기하에서수행하여고수율및 고순도의티민을제조하는방법에관한것이다.

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