公开(公告)号：KR1020050013552A

公开(公告)日：2005-02-04

申请号：KR1020047018995

申请日：2003-05-20

Applicant: 린데 악티엔게젤샤프트

Inventor： 디이트리히,안드레아스 ,  카스페르존,페터 ,  하우골트,카를,헨릭

IPC: G01N21/15 ,  G01N21/31 ,  G01N21/39

CPC classification number: G01N21/3504 ,  G01N21/09 ,  G01N21/15 ,  G01N21/39 ,  G01N21/59 ,  G01N21/85 ,  G01N2021/151 ,  G01N2021/3133 ,  G01N2021/396 ,  G01N2201/0233

Abstract: 본 발명은 레이저(2a)의 빔 경로가 공정가스를 함유한 용적(1)을 관통하는, 레이저(2a)를 이용하여 공정가스의 하나 이상의 성분의 농도를 측정하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명은 빔 경로의 일부는 자유롭게 공정가스를 관통하고 일부는 공정가스로부터 차폐되는 것을 특징으로 한다. 자유롭게 공정가스를 관통하는 빔 경로의 부분 만이 측정 구간(4)으로서 표시되어서 레이저 분광법에 따른 농도 측정을 위해서 사용되는데, 상기 측정을 위해서 정확하게 하나의 흡수선이 결정된다.