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公开(公告)号:KR1020160043201A
公开(公告)日:2016-04-21
申请号:KR1020140136748
申请日:2014-10-10
Applicant: 박민정
Inventor: 김계태
IPC: C04B35/64 , C04B35/185 , C04B35/48
CPC classification number: C04B35/64 , C04B35/185 , C04B35/481 , C04B2235/9623
Abstract: 본발명은세라믹열처리용세터에있어서, 상기세터에일정간격을두고세라믹성형물이수용되는다수의홀이사방으로형성되며, 상기홀은, 상광하협의형태로서, 상부홀은상기성형물보다직경이크고, 하부홀은상기성형물보다직경이작은것을특징으로하는세라믹열처리용세터를개시한다. 이러한본 발명에따르면, 세터에성형물이수용되는다수의홀이형성되어, 세터와칩간의통기성을확보함과동시에접촉면을줄여성형물의균일한열처리가가능할뿐만아니라, 성형물에대한열처리공정의작업성을개선하고, 전자푸품용칩에대한품질및 수율향상을기대할수 있으며, 나아가제품의경쟁력을향상시킬수 있는효과를기대할수 있다.
Abstract translation: 公开了一种陶瓷热处理设备。 更具体地说,陶瓷热处理用固定器具有多个孔,陶瓷成形材料在每个方向上距离固定器一定距离,其中顶部的孔宽,底部的孔窄。 与成形材料相比,顶部的孔具有更大的直径,与成形材料相比,底部的孔具有较小的直径。 根据本发明,固定器通过具有容纳成形材料的多个孔来确保固定器与芯片之间的渗透性,并且减小了固定器与芯片之间的接触面积,从而能够均匀地对成形材料进行热处理。 此外,固定器提高了对成形材料的热处理的可用性,并且可以提高电子部件的芯片的质量和产量,同时提高产品的竞争力。
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公开(公告)号:KR101680835B1
公开(公告)日:2016-11-29
申请号:KR1020140136748
申请日:2014-10-10
Applicant: 박민정
Inventor: 김계태
IPC: C04B35/64 , C04B35/185 , C04B35/48
Abstract: 본발명은세라믹열처리용세터에있어서, 상기세터에일정간격을두고세라믹성형물이수용되는다수의홀이사방으로형성되며, 상기홀은, 상광하협의형태로서, 상부홀은상기성형물보다직경이크고, 하부홀은상기성형물보다직경이작은것을특징으로하는세라믹열처리용세터를개시한다. 이러한본 발명에따르면, 세터에성형물이수용되는다수의홀이형성되어, 세터와칩간의통기성을확보함과동시에접촉면을줄여성형물의균일한열처리가가능할뿐만아니라, 성형물에대한열처리공정의작업성을개선하고, 전자푸품용칩에대한품질및 수율향상을기대할수 있으며, 나아가제품의경쟁력을향상시킬수 있는효과를기대할수 있다.
Abstract translation: 公开了一种陶瓷热处理设备。 更具体地说,陶瓷热处理用固定器具有多个孔,陶瓷成形材料在每个方向上距离固定器一定距离,其中顶部的孔宽,底部的孔窄。 与成形材料相比,顶部的孔具有更大的直径,与成形材料相比,底部的孔具有较小的直径。 根据本发明,固定器通过具有容纳成形材料的多个孔来确保固定器与芯片之间的渗透性,并且减小了固定器与芯片之间的接触面积,从而能够均匀地对成形材料进行热处理。 此外,固定器提高了对成形材料的热处理的可用性,并且可以提高电子部件的芯片的质量和产量,同时提高产品的竞争力。
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