광원의 파장 측정 장치 및 방법과 매질의 특성 측정 장치 및 방법
    1.
    发明公开
    광원의 파장 측정 장치 및 방법과 매질의 특성 측정 장치 및 방법 有权
    用于检测光源波长的装置和方法及装置以及用于检测媒体特性的方法

    公开(公告)号:KR1020150145531A

    公开(公告)日:2015-12-30

    申请号:KR1020140075537

    申请日:2014-06-20

    Inventor: 차명식 최희주

    CPC classification number: G01J3/14 G01J3/45 G01J2003/145 G02B5/3025

    Abstract: 파장측정장치가개시된다. 일실시예에의한파장측정장치는, 외부로부터입사되는빛을투과시키는매질, 상기매질에의한간섭무늬를검출하는검출장치및 상기검출된간섭무늬및 상기매질의특성에기초하여, 상기입사되는빛의파장을측정하는처리장치를포함할수 있다.

    Abstract translation: 公开了一种波长测量装置。 根据本发明的实施例的波长测量装置包括:用于发射从外部接收的光的介质; 用于通过介质检测干涉图案的检测装置; 以及用于基于检测到的干涉图案和介质的特性来测量接收光的波长的处理装置。

    투과광과 반사광의 간섭을 이용한 평판형 매질의 굴절률 측정시스템 및 방법
    2.
    发明公开
    투과광과 반사광의 간섭을 이용한 평판형 매질의 굴절률 측정시스템 및 방법 失效
    通过利用传输和反射的干扰来测量波形介质的折射率

    公开(公告)号:KR1020110031766A

    公开(公告)日:2011-03-29

    申请号:KR1020090089158

    申请日:2009-09-21

    Abstract: PURPOSE: A system and a method for measuring the refractive index of a plate-shaped sample using the interference of transmitted light and reflected light are provided to cost-efficiently and accurately measure the refractive index of plate-shaped media. CONSTITUTION: A system for measuring the refractive index of a plate-shaped sample using the interference of transmitted light and reflected light comprises a laser light source(11), a light detecting unit(14), and a calculation unit. The laser light source irradiates beams to a plate-shaped sample(13). The light detecting unit measures the intensity of transmitted light or reflected light from the laser light source. The calculation unit calculates the relative refractive index and thickness of the sample.

    Abstract translation: 目的:提供使用透射光和反射光的干涉来测量板状样品的折射率的系统和方法,以便成本有效且准确地测量板状介质的折射率。 构成:使用透射光和反射光的干涉来测量板状样品的折射率的系统包括激光源(11),光检测单元(14)和计算单元。 激光光源将光束照射到板状样品(13)。 光检测单元测量透射光的强度或来自激光光源的反射光。 计算单元计算样品的相对折射率和厚度。

    광원의 파장 측정 장치 및 방법과 매질의 특성 측정 장치 및 방법
    3.
    发明授权
    광원의 파장 측정 장치 및 방법과 매질의 특성 측정 장치 및 방법 有权
    用于检测光源波长的装置和方法及装置以及用于检测媒体特性的方法

    公开(公告)号:KR101637658B1

    公开(公告)日:2016-07-20

    申请号:KR1020140075537

    申请日:2014-06-20

    Inventor: 차명식 최희주

    Abstract: 파장측정장치가개시된다. 일실시예에의한파장측정장치는, 외부로부터입사되는빛을투과시키는매질, 상기매질에의한간섭무늬를검출하는검출장치및 상기검출된간섭무늬및 상기매질의특성에기초하여, 상기입사되는빛의파장을측정하는처리장치를포함할수 있다.

    투과광과 반사광의 간섭을 이용한 평판형 매질의 굴절률 측정시스템 및 방법
    4.
    发明授权
    투과광과 반사광의 간섭을 이용한 평판형 매질의 굴절률 측정시스템 및 방법 失效
    一种用于由所述发射光的干涉和反射光测量所述板状介质的折射率的系统和方法

    公开(公告)号:KR101059690B1

    公开(公告)日:2011-08-26

    申请号:KR1020090089158

    申请日:2009-09-21

    Abstract: 본 발명은 투과광과 반사광의 간섭을 이용한 평판형 매질의 굴절률 측정시스템 및 방법에 관한 것으로서 평판형 시료에 빔을 조사하는 레이저 광원; 평판형 시료를 통과하는 레이저 광원에서 나온 레이저 빔의 다중 반사에 의한 간섭무늬의 투과 또는 반사광의 세기를 입사각의 함수로 측정하는 광 검출수단; 및 평판형 시료에 대해 레이저 빔의 입사각이 θ일 때의 전기장들의 중첩에 의한 투과 또는 반사광의 세기(I
    T (θ))를 구하는 수학식 1과 이웃하는 두 빔 사이의 위상차(Φ(θ))를 구하는 수학식 2로부터 투과광 세기의 이론적인 투과 또는 반사광의 세기의 극대 또는 극소점들의 입사각들을 구하고, 이들을 광 검출수단에 의해 측정된 극대 또는 극소점들의 입사각들과 비교하여 가장 작은 오차를 주는 상대 굴절률(n
    r )과 두께(d)를 구하는 연산수단을 갖는다.
    여기서 수학식 1은
    이고,
    수학식 2는
    이며,
    수학식 3은
    이다 .
    광학매질, 굴절률, 다중반사, 간섭법, 투과광, 반사광, 레이저 광원.

    Abstract translation: 本发明是用于辐射束到板状样件的激光光源通过所传输的光的干涉涉及板状介质的折射率的测量系统和方法和反射的光; 光检测装置,用于测量在由来自通过所述板状样品作为入射角的函数的通过所述激光光源的激光束的多次反射的干涉图案透射或反射的光的强度; 并且当激光束的入射角为θ时,由于电场的叠加导致的透射或反射光的强度

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