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公开(公告)号:WO2016104979A1
公开(公告)日:2016-06-30
申请号:PCT/KR2015/013049
申请日:2015-12-02
Applicant: 삼성에스디아이 주식회사 , 삼성전자주식회사
IPC: C09J133/06 , C09J11/06 , C09J7/00
CPC classification number: C09J11/06 , C08K2201/011 , C09J4/00 , C09J7/00 , C09J7/10 , C09J7/385 , C09J133/06 , C09J2203/318 , C09J2205/102 , C09J2433/00 , C09J2483/00 , C08F220/18
Abstract: 본 발명의 점착제 조성물은 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트 및 공단량체를 포함하는 단량체 혼합물; 및 나노입자;를 포함하는 조성물이고, 상기 나노입자는 실리콘계 중합체를 포함하고, 평균입경은 약 5 nm 내지 약 800 nm이다.
Abstract translation: 根据本发明的粘合剂组合物包含:包含共聚单体和具有羟基的(甲基)丙烯酸酯的单体混合物; 和纳米颗粒,其中所述纳米颗粒包含硅基聚合物,并且具有约5nm至800nm的平均粒径。
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公开(公告)号:WO2016068661A3
公开(公告)日:2016-05-06
申请号:PCT/KR2015/011603
申请日:2015-10-30
Applicant: 삼성에스디아이 주식회사 , 삼성전자주식회사
IPC: G06F3/041
Abstract: 본 발명의 플렉시블 디스플레이 장치는 광소자부; 상기 광소자부 상에 형성된 제1 점착필름; 상기 제1점착필름 상에 형성된 터치기능부; 상기 터치기능부 상에 형성된 제2 점착필름; 및 상기 제2 점착필름 상에 형성된 윈도우 필름을 포함하고, 상기 제1 점착필름 또는 제2 점착필름은 온도가 x축(℃), 저장 모듈러스가 y축(KPa)인 온도에 따른 저장 모듈러스의 분포가, x축을 기준으로 -20 ℃ 내지 80 ℃에서의 평균 기울기가 약 -9.9 내지 약 0이고, 상기 제1 점착필름 또는 제2 점착필름은 80 ℃에서 저장 모듈러스가 약 10 KPa 이상인 것을 특징으로 한다.
Abstract translation: 本发明的柔性显示装置包括光学元件部分; 形成在光学元件上的第一粘合剂膜; 触摸功能单元,其形成在第一粘合膜上; 形成在触控功能部件上的第二粘合膜; 和所述第二压敏粘合剂包括设置在底片上的窗膜,并且第一压敏胶粘膜或所述第二压敏粘合剂膜,所述温度是x轴(℃),储能模量的分布根据所述y轴的温度的储能模量(KPa)的 的特征在于,至少x轴和在-20℃至80℃参考平均斜率约-9.9至约0,并且第一压敏胶粘膜或所述第二压敏粘合剂膜具有在80℃约10千帕的储能模量 。 p>
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公开(公告)号:WO2016068423A1
公开(公告)日:2016-05-06
申请号:PCT/KR2015/004274
申请日:2015-04-28
Applicant: 삼성에스디아이 주식회사 , 삼성전자주식회사
CPC classification number: C09J4/00 , C09J7/20 , C09J7/255 , C09J11/06 , C09J2203/318 , C09J2203/326 , C09J2433/00 , C09J2467/006 , G06F1/1652 , G06F3/041 , G06F2203/04102 , G06F2203/04103
Abstract: 본 발명의 실시예들에 따른 플렉시블 디스플레이 장치는 광소자부; 상기 광소자부 상에 형성된 제1 점착필름; 상기 제1점착필름 상에 형성된 터치기능부; 상기 터치기능부 상에 형성된 제2 점착필름; 및 상기 제2 점착필름 상에 형성된 윈도우 필름을 포함하고, 상기 제1 점착필름 또는 제2 점착필름은 온도가 x축(℃), 모듈러스가 y축(KPa)인 온도에 따른 모듈러스의 분포에 대하여, x축을 기준으로 한 -20 ℃ 내지 80 ℃에서의 평균 기울기가 약 -9.9 내지 약 0 인 것을 특징으로 한다.
Abstract translation: 根据本发明的实施例的柔性显示装置包括:光学元件单元; 形成在所述光学元件单元上的第一粘合膜; 形成在所述第一粘合膜上的触摸功能单元; 形成在所述触摸功能单元上的第二粘合膜; 以及形成在第二粘合膜上的窗膜,其中,关于根据温度的模量分布,在-20℃至80℃下,第一粘合膜或第二粘合膜的平均梯度为约-9.9至约0 C,基于x轴,其中温度是x轴(℃),模量是y轴(KPa)。
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公开(公告)号:WO2018221846A1
公开(公告)日:2018-12-06
申请号:PCT/KR2018/003425
申请日:2018-03-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: D06F39/08
Abstract: 호스를 고정하는 개선된 홀더를 포함하는 세탁기를 제공한다. 캐비닛, 캐비닛의 내부에 마련되는 터브, 터브에 수용되는 세탁수를 캐비닛의 외부로 배출할 수 있도록 마련되는 배수펌프, 배수펌프에 의해 펌핑된 세탁수를 캐비닛의 외부로 안내하는 배수호스 및 배수호스를 캐비닛에 고정할 수 있도록 캐비닛의 외면에 결합되는 홀더를 포함하고, 홀더는 배수호스를 수용하도록 마련되는 수용부와, 세탁수가 배수될 때 배수펌프에 의한 배수호스의 진동이 캐비닛으로 전달되는 것을 방지할 수 있도록 배수호스를 캐비닛으로부터 이격시키는 댐핑부를 포함한다.
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公开(公告)号:KR101908182B1
公开(公告)日:2018-10-15
申请号:KR1020160049269
申请日:2016-04-22
Applicant: 삼성에스디아이 주식회사 , 삼성전자주식회사
IPC: C09J7/20 , G02B5/20 , G02B5/30 , C09J133/08 , C09J133/10 , C09J11/06 , B32B7/12 , B32B27/36
Abstract: 수산기를갖는 (메트)아크릴계공중합체및 유기나노입자를포함하고, 식 1의전단강도의비가 1 내지 2인점착필름, 이를포함하는광학부재및 이를포함하는광학표시장치가제공된다.
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公开(公告)号:KR101814247B1
公开(公告)日:2018-01-05
申请号:KR1020150093811
申请日:2015-06-30
Applicant: 삼성에스디아이 주식회사 , 삼성전자주식회사
CPC classification number: C09J133/08 , C09J7/10 , C09J2201/622 , C09J2203/318 , C09J2205/102 , C09J2433/00
Abstract: 본발명의점착필름은수산기함유 (메트)아크릴레이트및 공단량체를포함하는단량체혼합물의공중합체, 및나노입자를포함하는점착제조성물로형성되고, -20 ℃에서의크립(creep)이 50 ㎛내지 100 ㎛이고, 겔분율이 50% 내지 75%이다.
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公开(公告)号:KR1020160053779A
公开(公告)日:2016-05-13
申请号:KR1020150145681
申请日:2015-10-19
Applicant: 삼성에스디아이 주식회사 , 삼성전자주식회사
IPC: C09J133/06 , C09J11/04 , C09J7/02
Abstract: 본발명의점착제조성물은수산기를갖는 (메트)아크릴레이트및 공단량체를포함하는단량체혼합물및 유기입자를포함하고, 상기유기입자의평균입경은 10 nm 내지 400 nm이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种粘合剂组合物,其粘合剂膜以及包含该粘合剂组合物的显示元件。 粘合剂组合物包括:具有含羟基的(甲基)丙烯酸酯和共聚单体的单体混合物; 和平均粒径为10〜400nm的有机粒子。 根据本发明,粘合剂组合物在宽范围温度下保持粘弹性的同时显示优异的回复性能和折叠性能。
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公开(公告)号:KR1020150077022A
公开(公告)日:2015-07-07
申请号:KR1020130165828
申请日:2013-12-27
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
CPC classification number: H01L29/66636 , H01L21/0276 , H01L21/823418 , H01L21/823437 , H01L29/165 , H01L29/517 , H01L29/66545 , H01L29/7834
Abstract: 반도체장치의제조방법에서, 기판상에소자분리막패턴을형성하여, 소자분리막패턴에의해커버된필드영역및 소자분리막패턴에의해커버되지않으며소자분리막패턴으로부터상부로돌출된제1 및제2 액티브영역들을정의한다. 소자분리막패턴상에제1 반사방지막을형성한다. 기판의제1 및제2 액티브영역들및 제1 반사방지막상에제1 포토레지스트막을형성한다. 제1 포토레지스트막을부분적으로식각하여, 제1 액티브영역을커버하는제1 포토레지스트패턴을형성한다. 제2 액티브영역에이온을주입하여제1 불순물영역을형성한다.
Abstract translation: 在制造半导体器件的方法中,本发明在衬底上形成器件分离膜图案; 限定由器件分离膜图案覆盖的场区域和未被器件分离膜图案覆盖并从器件分离膜图案突出到上部的第一和第二有源区域; 在器件分离图案上形成第一反射保护膜; 在基板上的第一和第二有源区上形成第一光致抗蚀剂膜和第一反射保护膜; 通过部分蚀刻第一光致抗蚀剂膜来形成覆盖第一有源区的第一光致抗蚀剂图案; 并且通过将离子注入到第二有源区中形成第一杂质区。
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