公开(公告)号：KR1020160142655A

公开(公告)日：2016-12-13

申请号：KR1020150078666

申请日：2015-06-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 나지훈 ,  이동근 ,  김병국 ,  이래원

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N21/956 ,  G01B11/00 ,  G01N2021/95676 ,  G01N2201/103 ,  G03F1/84

Abstract: 본발명의기술적사상에따른표면검사방법은, 빔어레이를형성하는멀티빔검사장치의스테이지에검사대상을로딩하는단계; 상기빔 어레이에포함된복수의빔들각각은복수의빔들간의피치(pitch)에의해정의되는커버영역을가지고, 상기복수의빔들각각의시역(Field Of View; FOV)은상기커버영역보다작도록설정하는단계; 및상기빔 어레이를이용하여상기시역에대응하는상기검사대상의복수의검사지점(point)들을스캔하는단계;를포함할수 있다. 또한, 본발명의기술적사상에따른표면검사방법은, 빔어레이를가지는멀티빔검사장치의스테이지에검사대상을로딩하는단계; 상기검사대상은상기빔 어레이와대응하는복수의단위영역들을포함하고, 상기검사대상을지지하는상기스테이지가이동하는동안상기빔 어레이는상기어느하나의단위영역의검사지점들을스캔하는단계; 및상기어느하나의단위영역의검사지점들로부터다른단위영역의검사지점들로상기빔 어레이가편향되는단계;를포함할수 있다.

Abstract translation: 一种检查表面的方法包括将检查对象加载在被配置为产生光束阵列的多光束检查装置的台上，并且与所述光束阵列同时扫描所述检查对象的多个检查区域，其中， 第一检查区域小于由连接梁阵列的相应的四个相邻梁的各个中心的四边形形成的区域，并且一个第一检查区域的相邻区域不被光束阵列扫描。

公开(公告)号：KR1020160031274A

公开(公告)日：2016-03-22

申请号：KR1020140121115

申请日：2014-09-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 나지훈 ,  김병국 ,  권혁주

IPC: H01L21/66 ,  G03F1/84 ,  H01L21/027

CPC classification number: G06T7/001 ,  G06T2207/30148

Abstract: 레티클검사장치및 방법이제공된다. 상기레티클검사장치는, 레티클(reticle), 상기레티클표면에관한스캔(scan) 이미지를생성하는스캔이미지생성부, 및상기스캔이미지생성부로부터제1 이미지와제2 이미지를제공받아비교하는이미지처리부를포함하되, 상기제1 이미지는상기레티클에펠리클(pellicle)이고정되지않은상태에서스캔한이미지이고, 상기제2 이미지는상기레티클에펠리클이고정된상태에서스캔한이미지이다.

Abstract translation: 提供了一种用于检查掩模版的方法和装置。 更具体地，本发明的目的是提供一种用于检查掩模版的装置，其通过将掩模版上的防护薄膜组件固定之前和之后的扫描图像进行比较来检查颗粒形成，从而即使在使用的光刻系统中也能进行标线检查 极紫外光。 本发明的装置包括：光罩; 产生所述掩模版的表面的扫描图像的扫描图像生成部; 以及图像处理部分，从扫描图像生成部分接收第一图像和第二图像，以便比较两者。 当防护薄膜组件未固定在掩模版上时，扫描第一个图像，而在将防护薄膜组件固定在掩模版上时扫描第二个图像。

公开(公告)号：KR1020130028179A

公开(公告)日：2013-03-19

申请号：KR1020110078845

申请日：2011-08-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조원일 ,  정동훈 ,  나지훈 ,  한상훈

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66 ,  G03F1/38

CPC classification number: G01N21/956 ,  G01N2021/95676 ,  G03F1/38 ,  G03F1/84 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0337 ,  H01L22/30

Abstract: PURPOSE: A method for inspecting a mask and an apparatus for performing the same are provided to compare a corrected mask with a reference mask. CONSTITUTION: The real image of a corrected mask die is obtained according to correction data(ST210). The real image is reversely corrected based on correction data(ST230). The reversely-corrected real image is compared with a reference image(ST240). The failure of the mask die is confirmed by a comparison process(ST250). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (ST210) Obtaining a first real image of a first die in a corrected mask; (ST220) Obtaining a second real image of a second die in the corrected mask; (ST230) Reversely correcting the first and second real images based on correction data; (ST240) Comparing the second reversely-corrected real image with the first reversely-corrected real image; (ST250) Detecting the failure in the second reversely-corrected real image; (ST260) Measuring a critical dimension in the second reversely-corrected real image

Abstract translation: 目的：提供一种用于检查掩模的方法和用于执行掩模的装置以将校正的掩模与参考掩模进行比较。 构成：根据校正数据获得校正掩模管芯的真实图像（ST210）。 基于校正数据反向校正实际图像（ST230）。 将反向校正的真实图像与参考图像进行比较（ST240）。 通过比较处理（ST250）确认掩模模具的故障。 （附图标记）（AA）开始; （BB）结束; （ST210）在校正的掩模中获得第一裸片的第一实像; （ST220）在校正的掩模中获得第二裸片的第二实像; （ST230）基于校正数据反向校正第一和第二实际图像; （ST240）将第二反向校正后的实际图像与第一反向校正的真实图像进行比较; （ST250）检测第二次反向校正的真实图像中的故障; （ST260）测量第二个反向校正的真实图像中的临界尺寸