公开(公告)号：KR102126061B1

公开(公告)日：2020-06-23

申请号：KR1020130146393

申请日：2013-11-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김성관 ,  김수경 ,  박정국 ,  김명선 ,  윤재성 ,  이준택 ,  최하규

IPC: H01L27/146

公开(公告)号：KR1020150061964A

公开(公告)日：2015-06-05

申请号：KR1020130146393

申请日：2013-11-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김성관 ,  김수경 ,  박정국 ,  김명선 ,  윤재성 ,  이준택 ,  최하규

IPC: H01L27/146

CPC classification number: H01L27/14645 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14627 ,  H01L27/14685

Abstract: 본발명의일 실시예에따른이미지센서의제조방법은제 1 내지제 3 픽셀영역들을포함하는기판을준비하는것, 상기기판상에제 1 컬러필터막을도포하는것, 상기제 1 컬러필터막의전면을덮는제 1 희생막및 제 1 보호막을차례로형성하는것, 상기제 1 픽셀영역에대응되는상기제 1 보호막상에제 1 포토레지스트패턴을형성하는것, 상기제 1 포토레지스트패턴에노출된상기제 1 희생막및 상기제 1 보호막을건식식각공정으로식각하여상기제 1 픽셀영역상에차례로적층된제 1 컬러필터, 제 1 희생패턴, 및제 1 보호패턴을형성하는것, 및상기제 1 컬러필터로부터상기제 1 희생패턴을선택적으로제거하여상기제 1 보호패턴을분리하는것을포함한다.

Abstract translation: 根据本发明的实施例的制造图像传感器的方法包括制备包括第一至第三像素区域的衬底，将第一滤色器层施加到衬底上，依次形成第一牺牲层和第一保护层 其覆盖第一滤色器层的整个表面，在对应于第一像素区域的第一保护层上形成第一光致抗蚀剂图案，在第一滤色器层上依次形成第一滤色器，第一牺牲图案和第一保护图案 通过蚀刻暴露于第一光致抗蚀剂图案和第一保护层的第一牺牲层，并且通过从第一滤色器选择性地去除第一牺牲图案来分离第一保护图案。