公开(公告)号：WO2019151689A1

公开(公告)日：2019-08-08

申请号：PCT/KR2019/000799

申请日：2019-01-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박희원

IPC: G06F21/32 ,  G06K9/00 ,  G06F21/36 ,  G06F3/01

Abstract: 전자 장치 및 그의 제어 방법이 개시된다. 본 개시에 따른 전자 장치의 제어방법은 기 설정된 이벤트가 감지되면, 사용자를 촬영하여 사용자 이미지를 획득하는 단계, 촬영된 사용자 이미지로부터 사용자의 얼굴을 포함하는 얼굴 이미지를 획득하여 저장하는 단계 및 얼굴 이미지를 확인하기 위한 사용자 입력이 수신되면, 저장된 얼굴 이미지를 시간 및 장소 중 적어도 하나를 기준으로 제공하는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR1019980086050A

公开(公告)日：1998-12-05

申请号：KR1019970022288

申请日：1997-05-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박희원

IPC: H01L21/768

Abstract: 본 발명에 의한 반도체 소자의 다층 배선 형성방법은, 게이트 전극이 구비된 반도체 기판 상에, 제 1 콘택 홀이 구비된 층간 절연막을 형성하는 공정과, 상기 제 1 콘택 홀 내부에 장벽 금속층을 형성하고 어닐링을 실시하는 공정과, 상기 장벽 금속층을 포함한 제 1 층간절연막 상의 소정 부분에 제 1 금속 배선층을 형성하는 공정과, 상기 제 1 금속 배선층의 표면이 소정 부분 노출되도록, 상기 제 1 층간절연막을 식각하여 제 2 콘택 홀을 형성하는 공정과, 상기 제 2 콘택 홀 내부에 장벽 금속층을 형성하는 공정 및, 상기 장벽 금속층을 포함한 상기 제 2 층간절연막의 소정 부분에 제 2 금속 배선층을 형성하는 공정으로 이루어져, 정션 스파이크로 인해 야기되는 금속 배선층의 쇼트 현상을 방지할 수 있게 되므로 반도체 소자의 동작 특성을 향상시킬 수 있 게 될 뿐 아니라 장벽 금속층의 어닐링 횟수 감소로 공정 단순화를 기할 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR1020160026575A

公开(公告)日：2016-03-09

申请号：KR1020140115702

申请日：2014-09-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정용 ,  사후,사미르칸트 ,  연훈제 ,  오정현 ,  최민석 ,  함성일 ,  민부건 ,  박희원 ,  신재식

IPC: H04W8/24 ,  H04W4/00 ,  H04W88/02 ,  H04W52/02

CPC classification number: H04L67/1051 ,  H04L67/04 ,  H04L67/303

Abstract: 다양한실시예에따르면, 제1 전자장치에의한데이터제공방법은, 복수의전자장치들과연결하는동작; 상기제1 전자장치에의해상기복수의전자장치들에게제공될수 있는데이터에대한정보를상기제1 전자장치를대신하여상기데이터를상기복수의전자장치들중 적어도하나의전자장치로전송하기위한호스트장치로선택된상기복수의전자장치들중 제2 전자장치로전송하는동작; 및상기데이터를상기제2 전자장치로전송하는동작을포함할수 있다.

Abstract translation: 根据各种实施例，用于由第一电子设备提供数据的方法可以包括以下操作：与多个电子设备连接; 将可以由第一电子设备提供给电子设备的数据的信息从被选择为用于将数据发送到电子设备中的至少一个的电子设备的电子设备中的第二设备代替第一设备 电子设备; 以及将数据发送到第二电子设备。 因此，可以减少用于提供数据提供服务的电子设备的数据传送的数量。